研究室メンバー(現役・OB/OG)と業績

メンバーリスト

現メンバー

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教授 河合 晃
助教 進藤 怜史
秘書  
D3 矢野 大作
D2 菅原 司
M2 岸井 裕太 / 佐藤 亮介
M1 大屋 幹 / 高垣 信巨 / 竹見 拡 / 長谷川 渓太 / 山浦 樹
B4 柴﨑 雄汰 / 谷川 直樹 / Huynh Do Duy Khanh
B3 10月に配属予定
客員教授
客員教授 山中 弘次(H27.5.1~H29.6.30)
客員准教授 矢野 大作(H29.7.1~H30.4.30)
客員准教授 金子 和功(H20.12.1~H23.11.30)
OB/OG

合計93名

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修了年
卒業年
博士修了
(4名)
修士修了
(54名)
学部卒業
(31名)
2018年   丸山 智大 / 矢木 菜摘 / 山根 克明  
2017年   白瀧 穂高 鎌田 翔 / 髙﨑 大輔 / 山口 信俊
2016年   中野 弘基  
2015年   国井 弥子 / 窪田 直也 / 篠﨑 雅也 石原 皓一
2014年   大谷 翔吾 / 大塚 和俊 / 桜井 洋輔 /
野口 悠太 / 福本 有輝
鎌田 隼 / Dang Tuan Khoi /
Muhammad Syauqi Bin Mohamed Tarmidzi
2013年   相場 崇  
2012年 森 暁 森田 直也 / 森永 和也  
2011年   笹崎 大生 / 小野 哲矢 / 大畑 俊輔 /
山田 昌佳
Nur Izzati Binti Zakariah
2010年 宮崎 順二 高野 覚啓 Izyan Nadirah
2009年   田中 大祐 / 山路 貴司 Eksouriya Phetphouchay /
田中 竜太朗
2008年   倉野 一俊 / 黒田 真吾 久保田 陽満
2007年 安江 孝夫 有賀 智崇 / 鈴木 健太 / 森内 貴広 中長 英明 / Norbaya Binti Hasan / Muhammad Shahreeza Safiruz Bin Kassim
2006年 佐藤 充   竹石 知史
2005年   石川 厚志 / 遠藤 穂高 / 新山 雄俊 /
山中 雅貴
中島 賢治
2004年   坂田 誠 / 根本 忠哉 / 平野 正人 Sahril Akmal Bin Halil /
Mohd. Ramli Bin Othman /
CHOUDHURY MD. ZUBAIR AKHTER
2003年   丹治 隆志  
2002年   井上 大輔 / 岩田 敏幸 / 小井土 順一 国安 浩平 / 福原 信也
2001年   阿部 貴人 / 磯部 亮 / 原 朋敬 小林 繋紀 / 本間 隆幸
2000年   森池 教夫 / 澤永 裕司 平野 克
1999年   金子 悦久 / 川神 淳子 / 西崎 芙美 金川 栄三 / 酒井 鉄平 / 武田 亘史
1998年   川上 喜章 / 関 明寛 / 堀口 博司 稲田 政勝 / 中田 健二
1997年   芦田 安立 / 岡田 彰 / 小泉 延恵 /
西村 知巳
 
1996年     関屋 さとみ
研究室在籍者
井上 貴明 / 鈴木 大吾 / 城生越 真由 / Sebastian Haupt (ダルムシュタット大学院・研究生) / 中村 悟

メンバー紹介

岸井 裕太 Yuta Kishii

M2

◆プロフィール

岸井裕太

所属
電気電子情報工学専攻2年
出身校
八戸工業高等専門学校 電気情報工学科
趣味
スポーツ観戦、ボードゲーム
取得している資格
電気工事士2種
サークル
バスケットボール
◆研究テーマ

アレニウス則による3次元高分子ナノ構造の劣化要因解析と最適化

◆自己PR
現在熱心に取り組んでいること
現在、私は英語力の向上に熱心に取り組んでいます。TOEICのスコアは現状の点数からの目標として、まず600点以上を目指しています。また、今後の国際学会で発表する機会に向けてプレゼンテーションで使える英語力を身につける努力をしています。
研究で重要だと考えていること
研究において重要なことは柔軟な考えを持つことだと考えています。研究では思い通りに進むときもあれば、進まない時もあると思います。その時にどれだけ柔軟な考えをし、次に繋げることができるかが大事なことだと考えています。
TOEIC実績
現在 490点 (B3配属時 335点)
◆研究業績
国内学会
  • 岸井裕太、河合 晃:光散乱法による微小バブル/微粒子系のゼータ電位解析、第77回応用物理学会秋季学術講演会、14p-P16-8(2016)
佐藤 亮介 Ryosuke Sato

M2

◆プロフィール

佐藤 亮介

所属
電気電子情報工学専攻2年
出身校
長岡工業高等専門学校 電子制御工学科
趣味
ドライブ、オーディオ
◆研究テーマ

サブナノクラスのゲート絶縁膜の高品位化に関する研究

◆自己PR
現在熱心に取り組んでいること
英語は研究をするための重要な道具だと考えているので、工業英語を一生懸命取り組んでいます。
研究で重要だと考えていること
オンとオフの切り替えが重要だと考えているので、初めに計画を立てて「この時間は全力で研究しよう」「この時間はおもいっきり休もう」ということを強く意識しています。
大屋 幹 Motoki Oya

M1

◆プロフィール

大屋幹

所属
電気電子情報工学専攻1年
出身校
秋田工業高等専門学校 電気情報工学科
趣味
バレーボール、バスケットボール
◆研究テーマ

光造形法による機能性3次元セルの開発

◆自己PR
現在熱心に取り組んでいること
英語の勉強に力を入れて取り組んでいます。TOEICで高得点を取り、最終的には英語で様々な国の方々とコミュニケーションをとれるようになることを目標にしています。
研究において重要だと考えること
研究で重要なことは基礎となる知識だと考えています。研究する分野についての知識を持つことで、新しい方法や考えを見つけることができると思うので、情報収集を日頃から行い、知識を増やすことが重要だと考えています。
TOEIC実績
現在 450点 (B3配属時 340点)
高垣 信巨 Nobuhiro Takagaki

M1

◆プロフィール

高垣信巨

所属
電気電子情報工学専攻1年
出身校
香川高等専門学校専攻科 詫間キャンパス 電子情報通信工学専攻
趣味
ゲーム(デジタル・アナログ問わず)
◆研究テーマ

多層エッチング法によるシングルナノサイズのデバイス研究

◆自己PR
現在熱心に取り組んでいること
高専の専攻科から入学したばかりの右も左も分からない新米なので、まずは足元を固めることに専念しています。
研究において重要だと考えること
落ち着いて研究に取り組むことが大事だと考えています。焦りはミスに、ミスは事故に繋がるため、精神面にしっかり余裕を持って研究に臨みたいです。
TOEIC実績
現在 505点 (M1配属時 465点)
竹見 拡 Hiromu Takemi

M1

◆プロフィール

竹見拡

所属
電気電子情報工学専攻1年
出身校
長岡工業高等専門学校 電気電子システム工学科
趣味
スポーツ観戦、音楽鑑賞
資格
第三種電気主任技術者
◆研究テーマ

共焦点レーザー顕微鏡の3次元解析による高分子膜中のナノ凝集体の非局在化

◆自己PR
現在熱心に取り組んでいること
私は特に英語力の向上に力を入れています。単語を知らなければ英語の文を理解できないため、毎日英単語を覚えるようにしています。修士修了までにTOEICのスコア800点以上を取得することを目標としています。
研究において重要だと考えること
目標を明確にし、達成するために必要な小目標を立てそれらをひとつずつ達成していくことだと考えています。
TOEIC実績
現在 860点 (B3配属時 590点)
◆その他
  • 平成30年度 (一財)永井エヌ・エス知覚科学振興財団奨学金、研究課題「汗及び皮膚ガス透過性を有する素肌感の高い高分子フィルムの開発」
長谷川 渓太 Keita Hasegawa

M1

◆プロフィール

長谷川渓太

所属
電気電子情報工学専攻1年
出身校
長岡工業高等専門学校 電気電子システム工学科
趣味
スポーツ観戦(特に野球)
◆研究テーマ

耐環境性を目指した単一電子トランジスタ(SET)の構造研究

◆自己PR
現在熱心に取り組んでいること
今はまだ配属されたばかりで分からないことが多いので、ゼミなどを通じてより多くの知識を得ることに取り組んでいます。
研究において重要だと考えること
根気強さが重要だと考えています。失敗をしても根気強く繰り返し実験を行うことで少しずつ目標に近づくことができると思っています。
TOEIC実績
現在 715点 (B3配属時 465点)
山浦 樹 Itsuki Yamaura

M1

◆プロフィール

山浦樹

所属
電気電子情報工学専攻1年
出身校
長野県立野沢南高等学校 普通科
趣味
ハンドボール、読書(小説、漫画)
◆研究テーマ

光/プラズマCVD法のラジカル制御による高品位有機誘電膜の作製

◆自己PR
現在熱心に取り組んでいること
英語学習に力を入れて取り組んでいて、最終的に英語で日本語と同じように会話できることを目標にしています。またTOEICのスコアは学部卒業までに600点を目指しています。
研究において重要だと考えること
研究において計画性が重要だと考えています。長期的なスパンで何を目的としてどのような実験を行うかを計画することによって限られた期間で結果を残せると思っています。また、研究の計画を立てる上で自分の研究する分野の最先端を知ることつまり情報収集が重要だと思います。
TOEIC実績
現在 510点 (B3配属時 320点)
柴﨑 雄汰 Yuta Shibasaki

B4

◆プロフィール

柴﨑雄汰

所属
電気電子情報工学課程4年
出身校
宇部工業高等学校 電気工学科
趣味
読書(文芸・ノンフィクション),音楽(クラッシック),ゲーム観戦,スキューバダイビング
サークル
技大祭実行委員,アドバンスドコース
◆研究テーマ

陽極接合を用いたマイクロカプセルスイッチング素子の開発

◆自己PR
現在熱心に取り組んでいること
私は広い視点を持つこと、使える英語を身に付けることを頑張っています。広い視点をもつことは、常識に囚われないことです。
例えば、どんな意見であっても、プラスにできないかを常に考えています。
また、英語ではTOEIC 600点を目標にしており,ビジネスで使える英語を勉強しています。そのため、英語でプレゼンをする練習をしています。
研究において重要だと考えること
私は現在、先生や先輩方の研究のスキルを学ぶことを頑張っています。また、研究は社会に出て初めて評価されます。そのため、研究のスキルを得ることと、論文を作成することが重要であると考えています。
TOEIC実績
現在 585点 (B3配属時 490点)
谷川 直樹 Naoki Tanikawa

B4

◆プロフィール

谷川直樹

所属
電気電子情報工学課程4年
出身校
神戸市立工業高等専門学校 電気工学科
趣味
音楽(エレクトーン)、テーブルゲーム、映画鑑賞
◆研究テーマ

相変化メモリのサイズ効果に関する研究

◆自己PR
現在熱心に取り組んでいること
英語の勉強に力を入れており、TOEICのスコアの向上および英語で話す力がつくように努めています。最終的には、英語でプレゼンテーションが出来るようになることを目標としています。
研究において重要だと考えること
計画性が重要であると考えています。どのような実験を行うか、何を知るために実験を行うかを計画することで効率的に研究が進められると思います。また、計画を立てるために研究分野の基礎知識をつけることが重要だと考えています。
TOEIC実績
現在 620点 (B3配属時 440点)
Huynh Do Duy Khanh フイン ドー ユイ カイン

B4

◆プロフィール

HuynhDoDuyKhanh

所属
電気電子情報工学課程4年
出身校
ホーチミン市工科大学
趣味
アニメ、小説、スマホゲーム
サークル
弓道部
◆研究テーマ

流体とマイクロチャネルにおける気泡の動きと工学及び医療における応用

◆自己PR
研究で重要だと考えていること
絶え間ない努力です。
難しくても、失敗しても、あきらめない限り、最後は成功するものと私は思っています。
現在熱心に取り組んでいること
私は日本語を勉強するのに力を入れています。正直言って留学生は大変です。授業では、先生が言われている事を理解することに力を入れています。時には私が伝えたい事を人が理解できるように努力しています。そして、私はいつもメモを取って辞書を使って言葉を覚えて、日本語をマスターする事を目標にしています。
TOEIC実績
現在 920点 (B3 11/2017)
   800点 (B2 02/2017)
IELTS実績
6.5点 (B2 02/2017)

OB(博士課程修了)研究業績

森 暁 Satoru Mori

2012年 博士課程修了

博士論文

微量添加元素による銅配線材料の界面反応と機械的特性に関する研究論文概要

Study of interfacial reaction and mechanical properties of copper wire materials by adding a small amount of additive elementsAbstract

原著論文
  • Satoru Mori, Akira Kawai, "Low-Resistivity and Adhesive Sputter0Deposited Cu-Ca Films with an Intermidiate Oxide Layer", Jpn. J. Appl. Phys., 49 (2010) p075804-1~8.
  • Satoru Mori, A. Kawai, "Interfacial Microstructure of a Double-layer Cu Film Consisting of an Under-layer Deposited in 10 vol% O2 in Ar and an Upper-layer Deposited in Pure Ar", Journal of the Adhesion Society of Japan,48,1(2012)
宮崎 順二 Junji Miyazaki

2010年 博士課程修了

博士論文

高精度マスク技術による光リソグラフィの延命化に関する研究論文概要

A study of the extension of photolithography by utilizing improvements of photomask technologyAbstract

原著論文
  • Junji Miyazaki, Akira Kawai, "Formation Mechanism of Micro Defect in Anisotropic Etching Analyzed by using Quasi-defect Pattern", J. Photopolymer Science and Technology, 22(3), 313-316 (2009).
  • Junji Miyazaki, Akira Kawai, "Characterization of photpmask substrate in optical lithography", J. Photopolymer Science and Technology, 22(5), 555-559 (2009).
  • Junji Miyazaki, Akira Kawai, "Fidelity of Mask Shape and Use of a Correction Method in Anisotropic Si Wet Etching", J. Photopolymer Science and Technology, 22,(6), 731-735 (2009).
  • Junji Miyazaki, Nobuhito Toyama, Akira Kawai, "Double Patterning Analysis Method by Emulation using a Double-Exposure Technique", Jpn. J. Appl. Phys., 49 (2010) p035201-1~6.
国際学会
  • Junji Miyazaki, Akira Kawai, "Characterization of photomask substrate in optical lithography", International symposium on materials & processes for advanced microlithography and nanotechnology 2009, Chiba, Japan.
国内学会
  • 宮崎順二、河合 晃:Si異方性ウェットエッチングにおけるマスク欠陥の転写特性、第26回フォトポリマーコンファレンス、マイクロリソグラフィとナノテクノロジー、B5-10、(千葉) 2009
安江孝夫 Takao Yasue

2007年 博士課程修了

博士論文

走査型プローブ顕微鏡を用いた半導体表面およびデバイス信頼性の評価に関する研究論文概要

Research on evaluation of semiconductor surface and device reliability using scanning probe microscopyAbstract

原著論文
  • Takao Yasue, Hiroshi Koyama, Tadao Kato and Tadashi Nishioka, "I-V characteristics of modified silicon surface using scanning probe microscopy", J. Vac. Sci. Technol. B15, 614 (1997).
  • Takao Yasue, Yoshiko Yoshida, Hiroshi Koyama, Tadao Kato and Tadashi Nishioka, "Dielectric breakdown of silicon oxide by scanning probe microscopy", J. Vac. Sci. Technol. B15, 1884 (1997).
  • 安江孝夫、河合 晃、「走査型プローブ顕微鏡によるシリコン酸化膜の経時絶縁破壊測定」、表面科学 27, 245 (2006)
国際学会
  • Takao Yasue, Tadashi Nishioka, Toshiharu Katayama and Hiroshi Koyama, "Observation of Si(100) Surface by STM/STS", International Conference of STM '91, Interlaken, Switzerland (1991).
特許
  • 西岡 直、安江孝夫、小山 浩、特許2501897 「走査型トンネル顕微鏡のトンネル・ユニット及びスキャン・ヘッド」
  • 西岡 直、安江孝夫、小山 浩、特許2501945 「原子間力顕微鏡のカンチレバ―及びその製造方法」
  • 西岡 直、安江孝夫、特許2572107 「走査型トンネル顕微鏡の粗動機構」
  • 西岡 直、安江孝夫、特許3417721 「走査プローブ顕微鏡の使用方法」
佐藤 充 Mitsuru Sato

2006年 博士課程修了

博士論文

A study on functionality characterization of thin-film resist and relating materials for emerging lithographyAbstract

先端リソグラフィにおける薄膜レジスト及び関連材料の機能性評価に関する研究論文概要

原著論文
  • Mitsuru SATO, Leonidas E. OCOLA, Anthony E. NOVEMBRE, Katsumi. OHMORI, Kiyoshi ISHIKAWA, Yasuhiko KATSUMATA, and Toshimasa NAKAYAMA, "Characteristics for negative and positive tone resists with direct write electron beam and SCALPEL exposure system", Journal of Vacuum Science and Technology Vol.B17 pp.2873-2877.(1999)
  • Kiyoshi ISHIKAWA, Mitsuru SATO, Hiroji KOMANO, Teruhiko KUMADA, and Hiroaki SUMITANI, "Resist characteristics with electron beam and synchrotron radiation (SR) exposures", Journal of Phtopolymer Science and Technology Vol. 13 pp.391-394 (2000).
  • Leonidas E. OCOLA, Paul A. ORPHANOS, Wai Yee J. LI, Warren WASKIEWICZ, Anthony E.NOVEMBRE, and Mitsuru SATO, "Roughness study of a positive tone high performance SCALPEL resist", Journal of Vacuum Science and Technology Vol.B18 pp.3435-3440 (2000).
  • Tsuyoshi NAKAMURA, Kiyoshi ISHIKAWA, Mitsuru SATO, and Hiroji KOMANO, "Ultra thin film resist for low energy Electron beam projection lithography", Journal of Phtopolymer Science and Technology Vol. 15 pp.417-422 (2002).
  • Takuma HOJO, Mitsuru SATO, and Hiroji KOMANO, "Recent Progress in New Acetal-based Resist for Electron Beam Lithography", Journal of Phtopolymer Science and Technology Vol. 16 pp.455-458 (2003).
  • Masaaki YOSHIDA, Kotaro ENDO, Keita ISHIZUKA, and Mitsuru SATO,
    Development Status of High Performance Materials for Immersion Lithography, Journal of Phtopolymer Science and Technology Vol. 17 pp.603-607 (2004).
  • Mitsuru SATO, Masaaki YOSHIDA, Keita ISHIZUKA, Hiromitsu TSUJI, and Kotaro ENDO, "Resist Elution Study for Immersion Lithography", Japanese Journal of Applied Physics Vol. 44 pp.5803-5806.(2005).
  • Mitsuru SATO and Akira KAWAI, "Topcoat Characterization for Immersion Lithography by Fluoric Acid Etching on Silicon Substrate", Journal of Phtopolymer Science and Technology Vol. 19(5), 601-611 (2006).

OB(修士課程修了/学部卒業)研究業績

丸山 智大 Tomohiro Maruyama

2018年 修士課程修了

修士論文

凝集/付着エネルギー制御に基づくシングルナノスケールの高分子膜形成に関する研究

Study on Formation of Single Nanoscale Polymer Film Based on Cohesive and Adhesion Energy Controls

国際学会
  • Akira Kawai, Tomohiro Maruyama, Hiroki Nakano, "Negative Pattern Formation in Positive Resist Layer by EB / UV Hybrid Lithography", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Tue-A1-11 (2016)
  • Tomohiro Maruyama, Katsuaki Yamane, Hiroki Nakano, Akira Kawai, "Characterization of SAN (Self-Assembled Network) Structure Formed in Ultra Thin Film by using AFM (atomic force microscope)", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Wed-C2-164 (2016)
  • Akira Kawai, Hodaka Shirataki, *, Natsumi Yagi, Katsuaki Yamane, Tomohiro Maruyama, "Characterization of Nanoscale Bubble and Polymer Aggregate Adhered on Substrate by using Atomic Force Microscope (AFM) Tip", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Wed-C2-165 (2016)
  • Katsuaki Yamane, Tomohiro Maruyama, Yosuke Sakurai, Akira Kawai, "Development of Micro Cone Shape Tube Utilizing for Gas Trap Sysytem", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Thu-C11-223 (2016)
  • Tomohiro Maruyama, Akira Kawai, "Formation of Ultra Thin Continuous Resist Film Less Than 10nm", The 5th International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN 2016), Japan, P-24 (2016)
国内学会
  • 山根克明、丸山智大、河合 晃:コーン型マイクロチューブ内への ガス捕獲機能、第77回応用物理学会秋季学術講演会、13a-D61-5(2016)
  • 丸山智大、中野弘基、河合 晃:スピンコート法によるレジスト膜の自己組織化ネットワーク(SAN)構造の形成、第77回応用物理学会秋季学術講演会、14p-P16-2(2016)
  • 河合 晃、丸山智大、中野弘基:電子線照射/UV露光ハイブリッドリソグラフィによるレジストパターンの形成、第77回応用物理学会秋季学術講演会、14p-P16-4(2016)
海外での教育研究活動
  • ウィーン/オーストリア(国際学会)
  • チューリッヒ/スイス(研修)
矢木 菜摘 Natsumi Yagi

2018年 修士課程修了

修士論文

3次元液体マイクロチューブネットワークの構築と高機能化

Construction and Functionalization of Three-dimensional Liquid Microtube Network

受賞
  • 学長表彰(平成29年度 長岡技術科学大学) 2018年
  • 電気専攻長特別表彰(平成29年度 長岡技術科学大学) 2018年
  • 電気専攻長賞(平成29年度 長岡技術科学大学) 2018年
原著論文
  • Natsumi Yagi, Akira Kawai, "Effect of Sub-Pattern on Guiding Liquid Propagation at Microchannel Junction", J. Photopolymer Science and Technology, 29(6), 833-834 (2016)
  • Natsumi Yagi and Akira Kawai, "Three-Dimensional Analysis of Liquid Propagation at Microchannel Junction using ESEM", J. Photopolymer Science and Technology, 30(6), 709-714 (2017)
国際学会
  • *, Natsumi Yagi, Yuta Noguchi, Akira Kawai, "Combination of Micro-Heater and Water Channel Device and Its Application to Plant Cell Vital Control", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Wed-C2-160 (2016)
  • Natsumi Yagi, *, Tomotaka Ariga, Hotaka Endo, Akira Kawai, "Bubble Trap Analysis for Smooth Fluid Flowing in Micro Channel / Tube Network", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Wed-C2-161 (2016)
  • Akira Kawai, Hodaka Shirataki, *, Natsumi Yagi, Katsuaki Yamane, Tomohiro Maruyama, "Characterization of Nanoscale Bubble and Polymer Aggregate Adhered on Substrate by using Atomic Force Microscope (AFM) Tip", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Wed-C2-165 (2016)
  • Natsumi Yagi, Akira Kawai, "Smooth Fluid Flow at Micro Channel/Tube Junction", The 5th International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN 2016), Japan, P-18 (2016)
国内学会
  • 矢木菜摘、河合 晃:マイクロチャネル/チューブ網における気泡トラップ解析、第77回応用物理学会秋季学術講演会、14p-P16-7(2016)
海外での教育研究活動
  • クイーンズタウン/シンガポール(高専生のための英語キャンプ・平成24年度)
  • ウィーン/オーストリア(国際学会)
  • チューリッヒ/スイス(研修)
その他
  • 平成28年度 (一財)永井エヌ・エス知覚科学振興財団奨学金、研究課題「感覚機能の増進を目指した人工毛細血管網の開発」
山根 克明 Katsuaki Yamane

2018年 修士課程修了

修士論文

バイオミメティクス型マロノズルによるリソグラフィ技術の高品位化

Development of biomimetic nozzle by High-quality Photo Lithography Technique

受賞
  • The Best Poster Award, The 5th International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN 2016)
  • 電気専攻長賞(平成29年度 長岡技術科学大学) 2018年
原著論文
  • Katsuaki Yamane and Akira Kawai, "Application to Artificial Skin of Double Cone Tube Made of Acrylic Resin Formed by Micro Stereolithography", J. Photopolymer Science and Technology, 30(3), 345-350 (2017)
国際学会
  • Akira Kawai, Katsuaki Yamane, Masaya Shinozaki, Yosuke Sakurai, "Fuel Cell Operation in Liquid Environment by Gas-Liquid Interface Control System", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Wed-C2-162 (2016)
  • Tomohiro Maruyama, Katsuaki Yamane, Hiroki Nakano, Akira Kawai, "Characterization of SAN (Self-Assembled Network) Structure Formed in Ultra Thin Film by using AFM (atomic force microscope)", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Wed-C2-164 (2016)
  • Akira Kawai, Hodaka Shirataki, *, Natsumi Yagi, Katsuaki Yamane, Tomohiro Maruyama, "Characterization of Nanoscale Bubble and Polymer Aggregate Adhered on Substrate by using Atomic Force Microscope (AFM) Tip", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Wed-C2-165 (2016)
  • Katsuaki Yamane, Tomohiro Maruyama, Yosuke Sakurai, Akira Kawai, "Development of Micro Cone Shape Tube Utilizing for Gas Trap Sysytem", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Thu-C11-223 (2016)
  • Katsuaki Yamane, Akira Kawai, "Biomimetic Fabrication of Gas Storage System in Micro Two Step Cone Tube", The 5th International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN 2016), Japan, P-23 (2016)
  • Katsuaki Yamane and Akira Kawai, "Application to Artificial Skin of Double Cone Tube Made of Acrylic Resin Formed by Micro Stereolithography", The 34th International Conference of Photopolymer Science and Technology (ICPST-34), Makuhari, Chiba, Japan, A-66 (2017)
  • Katsuaki Yamane and Akira Kawai, "Fabrication of Double Cone Tube Formed by Micro Stereolithography for Molding of Three-Dimensional Metal Structure", The 6th International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN 2017), Japan, RD-037 (2017)
国内学会
  • 山根克明、河合 晃:フジツボ型液体透過性触覚センサデバイスの作製、平成27年度電子情報通信学会信越支部大会、講演論文集、P-17、P153(2015)
  • 山根克明、丸山智大、河合 晃:コーン型マイクロチューブ内への ガス捕獲機能、第77回応用物理学会秋季学術講演会、13a-D61-5(2016)
  • 山根克明、河合 晃:溶存酸素抽出による液中動作型燃料電池の開発、第77回応用物理学会秋季学術講演会、14p-P13-8(2016)
海外での教育研究活動
  • ウィーン/オーストリア(国際学会)
  • チューリッヒ/スイス(研修)
白瀧 穂高 Hodaka Shirataki

2017年 修士課程修了

修士論文

Au/機能性樹脂/Si半導体キャパシタ素子による有機アルカリイオンの浸透挙動解析

Analysis of Organic alkali ion Intrusion Behavior by Au/Functional resin/Si Capacitor Device

受賞
  • 電気専攻長賞(平成28年度 長岡技術科学大学) 2017年
原著論文
  • Hodaka Shirataki, Akira Kawai, "In-situ Monitoring of TMAH Developer Intrusion into Resist Film by C-V Method", J. Photopolymer Science and Technology, 29(6), 817-822 (2016)
国際学会
  • Hodaka Shirataki, Akira Kawai, "C-V characteristic of Ta2O5 sputtered thin film of 17nm thickness", The 4th International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN 2015), Japan, MP-26, Abstract P240 (2015)
  • Hodaka Shirataki, Akira Kawai, "TMAH Developer Intrusion into Resist Film Analyzed by C-V Method of MIS Structure", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, C7-1-6 (2016)
  • Akira Kawai, Hodaka Shirataki, *, Natsumi Yagi, Katsuaki Yamane, Tomohiro Maruyama, "Characterization of Nanoscale Bubble and Polymer Aggregate Adhered on Substrate by using Atomic Force Microscope (AFM) Tip", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Wed-C2-165 (2016)
  • Akira Kawai, Hodaka Shirataki, Hiroki Sasazaki, Shogo Ohtani, "Dielectric Dispersion Analysis of Resist Materials by Parallel Plate Capacitor Structure", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Thu-C7-211 (2016)
  • Hodaka Shirataki, Akira Kawai, "Analysis of TMAH Developer Intrusion into Resist Film by C-V Curve of MIS Capacitor", The 5th International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN 2016), Japan, P-15 (2016)
  • Hodaka Shirataki, Akira Kawai, "Durability of Resist Film in TMAH Developer Analyzed by C-V Method", International Conference of Science of Technology Innovation 2017 (STI-Gigaku 2017), Nagaoka, Japan, STI-9-91 (2017)
国内学会
  • 白瀧穂高、河合 晃:Ta2O5薄膜をゲート酸化膜としたMOSキャパシタのTDDB評価、平成27年度(2015年) 応用物理学会 北陸・信越支部 学術講演会、講演予稿集、E13、P32(2015)
  • 白瀧穂高、河合 晃:C-V応答法によるMIS構造内レジスト膜へのTMAH現像液の浸透解析、第77回応用物理学会秋季学術講演会、13a-D61-4(2016)
  • 白瀧穂高、河合 晃、大谷翔吾、笹崎大生:リソグラフィ用レジスト材料の誘電分散特性、第77回応用物理学会秋季学術講演会、14p-P16-3(2016)
海外での教育研究活動
  • ウィーン/オーストリア(国際学会)
  • チューリッヒ/スイス(研修)
髙﨑 大輔 Daisuke Takasaki

2017年 学部卒業

卒業論文

Viscous Fingering現象の高機能化を目指したハイブリッド制御

Hybrid Control to aim at highly functional Viscous Fingering

中野 弘基 Hiroki Nakano

2016年 修士課程修了

修士論文

機能性高分子薄膜の凝集構造のナノスケール制御とデバイス応用

Nano Scale Control of Aggregate Structure in Functional Polymer film and Device Application

受賞
  • 電気専攻学術論文賞(平成28年度 長岡技術科学大学) 2017年
原著論文
  • Hiroki Nakano, Kenta Takahashi, Akira Kawai, "Negative pattern formation in positive resist layer by EB / UV hybrid lithography", J. Photopolymer Science and Technology, 29(4), 603-606 (2016) in perss.
国際学会
  • Hiroki Nakano, Yosuke Sakurai, Akira Kawai, "Fabrication of Functional Membrane Electrode Assembly (MEA) by Lithography Process", 40th Micro and Nano Engineering (MNE2014)(2014) Lausanne, Switzerland.
  • Hiroki Nakano and Akira Kawai, "Functional Pattern formation on I-line Resist Film by Hybrid Lithography Utilizing Electron Beam and I-line Optical Sources",
    27th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2014) Fukuoka, Japan
  • Hiroki Nakano, Akira Kawai, "Formation Mechanism of Nano-Scale Self-Aligned Structure of Perfluorosulfonic Acid (PFSA) Analyzed by Surface Energy Balance Model", The 5th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO 2015) Niigata, Japan, P1-1, P57 (2015).
  • Akira Kawai, Hiroki Nakano, "Peeling Analysis of Nanoscale Condensed Matters by using Cantilever Tip of Atomic Force Microscope (AFM)", The 5th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO 2015) Niigata, Japan, P3-33, P259 (2015).
  • Akira Kawai, Hiroki Nakano, "Manipulation of Nanoscale Condensed Soft Matters by using Cantilever Tip of Atomic Force Microscope (AFM)", The 4th International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN 2015), Japan, IP-1, Abstract P194 (2015).
  • Hiroki Nakano, Akira Kawai, "Nano-Scale Self-Aligned Structure Formed on Ionic Conductive Film: Perfluorosulfonic Acid (PFSA)", The 4th International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN 2015), Japan, IP-19, Abstract P211 (2015).
  • Hiroki Nakano, Kenta Takahashi, Akira Kawai, "Negative pattern formation in positive resist layer by EB / UV hybrid lithography", ICPST-32, Makuhari, Chiba (2016).
  • Akira Kawai, Tomohiro Maruyama, Hiroki Nakano, "Negative Pattern Formation in Positive Resist Layer by EB / UV Hybrid Lithography", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Tue-A1-11 (2016)
  • Tomohiro Maruyama, Katsuaki Yamane, Hiroki Nakano, Akira Kawai, "Characterization of SAN (Self-Assembled Network) Structure Formed in Ultra Thin Film by using AFM (atomic force microscope)", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Wed-C2-164 (2016)
国内学会
  • 中野弘基、河合 晃:電子線照射/UV露光リソグラ フィによるパターン高さ制御、平成27年度(2015年) 応用物理学会 北陸・信越支部 学術講演会、講演予稿集、A15、P32(2015)
  • 中野弘基、河合 晃:高分子膜内の自己組織化ナノスケール網目状構造の形成、平成27年度(2015年) 応用物理学会 北陸・信越支部 学術講演会、講演予稿集、A16、P33(2015)
  • 丸山智大、中野弘基、河合 晃:スピンコート法によるレジスト膜の自己組織化ネットワーク(SAN)構造の形成、第77回応用物理学会秋季学術講演会、14p-P16-2(2016)
  • 河合 晃、丸山智大、中野弘基:電子線照射/UV露光ハイブリッドリソグラフィによるレジストパターンの形成、第77回応用物理学会秋季学術講演会、14p-P16-4(2016)
海外での教育研究活動
  • ニューヨーク/米国(研修)
  • ローザンヌ/スイス(国際学会)
  • ロンドン/イギリス(研修)
国井 弥子 Yako Kunii

2015年 修士課程修了

修士論文

リソグラフィによる表面ナノ分子構造制御とヒトの触感センシングへの応用

受賞
  • 電気系長賞(平成26年度 長岡技術科学大学) 2015年
原著論文
  • Yako Kunii, Akira Kawai, "Tactile senses control by contacting a human finger with micro resist pattern arrangements", J. Photopolym. Sci. Technol., 27 (6) 691-694(2014)
国際学会
  • Yako Kunii, Akira Kawai, "Effective Control of Tactile Sense in Human Finger by Micro Pattern Arrangement", 40th Micro and Nano Engineering (MNE2014) Lausanne, Switzerland, (2014)
  • Yako Kunii and Akira Kawai, "Precise Nanoimprint Processes Optimized by Surface Energy Model", 27th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2014) Fukuoka, Japan, (2014)
海外での教育研究活動
  • ジョホールバル/マレーシア(海外実務訓練)
  • ニューヨーク/米国(研修)
  • ローザンヌ/スイス(国際学会)
  • ロンドン/イギリス(研修)
その他
  • H26年度 エヌ・エス知覚科学振興会奨学金「マイクロパターンを有する生体親和性膜の作製とヒトの触感コントロール」
窪田 直也 Naoya Kubota

2015年 修士課程修了

修士論文

ナノフリクション制御に基づく表面電位応用素子に関する研究

国内学会
  • 窪田直也、河合 晃:摩擦蓄電エネルギーの民生機器の実用化の検討、第22回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P-14、P78 (2012)
海外での教育研究活動
  • ソウル/韓国(研修)
篠崎 雅也 Masaya Shinozaki

2015年 修士課程修了

修士論文

気液界面制御による液中動作型マイクロ生体燃料電池の開発

国内学会
  • Akira Kawai, Katsuaki Yamane, Masaya Shinozaki, Yosuke Sakurai,
    "Fuel Cell Operation in Liquid Environment by Gas-Liquid Interface Control System",
    42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Wed-C2-162 (2016)
国内学会
  • 篠崎雅也、河合 晃:C-V測定を用いた誘電膜の特性評価、第23回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、I-16、P18(2013)
海外での教育研究活動
  • ニューヨーク/米国(研修)
石原 皓一 Koichi Ishihara

2015年 学部卒業

卒業論文

溶存酸素分離機構を有する液中動作型燃料電池

大谷 翔吾 Shogo Otani

2014年 修士課程修了

修士論文

微細構造電極を用いた緑葉植物の等価回路解析

受賞
  • 電気系学術論文賞(平成26年度 長岡技術科学大学) 2015年
原著論文
  • Akira Kawai, Shogo Ohtani, "Frequencydispersion of permittivity of SU-8 resist thin film", J. Photopolym. Sci. Technol., 27 (6) 711-712 (2014)
  • Akira Kawai, Hodaka Shirataki, Hiroki Sasazaki, Shogo Ohtani, "Dielectric Dispersion Analysis of Resist Materials by Parallel Plate Capacitor Structure", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Thu-C7-211 (2016)
国内学会
  • 大谷 翔吾、河合 晃:緑葉植物の0~700mVの局所電位測定と解析、電気学会 基礎・材料・共通部門大会、要旨集、P-28 (2011)
  • 大谷翔梧、河合 晃:植物電位と表面温度の多点測定による緑葉植物の生育観察、第22回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、II-13、P30 (2012)
  • Shogo Ohtani, Akira Kawai:Bio-plant power collecting system by functional electrode, 電気学会センサ・マイクロマシン部門 第30回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム,5PM3-PSS-133 (2013).
  • 大谷翔吾、河合 晃:植物電位・電流シグナルにおける測定部位の検討、 第23回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、IV-11、P61(2013)
  • 白瀧穂高、河合 晃、大谷翔吾、笹崎大生:リソグラフィ用レジスト材料の誘電分散特性、第77回応用物理学会秋季学術講演会、14p-P16-3(2016)
大塚 和俊 Kazutoshi Otsuka

2014年 修士課程修了

修士論文

光リソグラフィによる積層型マイクロ多孔チューブ構造の開発

受賞
  • 電気系長賞(平成25年度 長岡技術科学大学) 2014年
原著論文
  • Kazutoshi Otsuka, Kenta Takahashi, Akira Kawai, “Fabrication of Micro Tube Array by Combining Positive with Negative Type Photoresists due to Solubility Difference in Developer”, J. Photopolymer Science and Technology, 26(6), 717-720 (2013).
国内学会
  • 大塚和俊、河合 晃:SU-8フォトレジストの人工皮膚材料としての検討、第22回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、I-02、P4 (2012)
  • Kazutoshi Otsuka, Kenta Takahashi, Akira Kawai:Fabrication of Micro Tube Array by Combining Positive with Negative Photoresist due to Solubility Difference in Developer,電気学会センサ・マイクロマシン部門, 第30回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム, 6PM3-PSS-116 (2013).
  • 大塚和俊、高橋健太、河合 晃:ポジ型およびネガ型フォトレジストの溶解度の差を用いたマイクロチューブの作製、第23回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、I-14、P16(2013)
桜井 洋輔 Yosuke Sakurai

2014年 修士課程修了

修士論文

プロトン伝導膜/触媒電極構造のパターン化によるマイクロ燃料電池の小型化・高機能化に関する研究

受賞
  • ヤングエンジニア・ポスター・コンペティション優秀賞(平成23年電気学会 基礎・材料・共通部門大会) 2011年
  • Best Poster Award (The 2nd International GIGAKU Conference in Nagaoka (2nd IGCN)) 2013
  • 学生表彰(平成25年度 長岡技術科学大学) 2014年
  • 電気系長賞(平成25年度 長岡技術科学大学) 2014年
原著論文
  • Yosuke Sakurai, Akira Kawai, "Mechanical Stress on Ionic Conductivity of Perfluorosulfonic Acid (PFSA) Film by Photolithography", J. Photopolymer Science and Technology, 25, 723-726 (2012).
  • Yosuke Sakurai, Kenta Takahashi, Akira Kawai, “Liquid Penetration Control of Photoresist/Perfluorosulfonic Acid (PFSA) Double Layer Structure by Hydrophobic Treatment”, J. Photopolymer Science and Technology, 26(6), 727-732 (2013).
  • Yosuke Sakurai, Daisuke Tanaka, Shunsuke Ohata, Akira Kawai“Fabrication and Durability of Single Chip Micro Direct Methanol Fuel Cell (SC-μDMFC) by Photolithography Process”, J. Photopolymer Science and Technology, 26(6), 751-756 (2013).
国際学会
  • Yosuke Sakurai, Akira Kawai, "Stress Durability of Electrolyte Structure in Flexible Sheet type Direct Methanol Fuel Cell (FS-DMFC)", The Electrochemical Society, Abstract #59, Honolulu PRiME 2012.
  • Yosuke Sakurai, Akira Kawai, "Effect of Mechanical Stress on Electrolyte Film for Flexible Sheet Type Direct Methanol Fuel Cel"l, The 2nd International GIGAKU Conference in Nagaoka (2nd IGCN), Abstract P151, (2013)
  • Yosuke Sakurai, Kenta Takahashi, Akira Kawai, "Micro Pattern Fabrication of Perflurosulfonic Acid (PFSA) Film by CF4 RIE Process", 26th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2013), Abstract #8P-11-127L, (2013).
  • Yosuke Sakurai, Daisuke Tanaka, Shunsuke Ohata, Akira Kawai, "Photoresist/Pt Electrode/Perflurosulfonic Acid (PFSA) Multilayer Structure for Single Chip Micro Direct Methanol Fuel Cell (SC-μDMFC)", 26th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2013), Abstract #8P-11-128L, (2013).
  • Yosuke Sakurai, Daisuke Tanaka, Shunsuke Ohata, Akira Kawai, "Single chip micro direct methanol fuel cell (SC-μDMFC) fabricated by MEMS Process", 第23回電気学会東京支部新潟支所研究発表会,IEEE-07,予稿集, P72 (2013).
  • Akira Kawai, Yosuke Sakurai, "Peeling analysis of nanoscale defects by using cantilever tip of atomic force microscope (AFM)", PMJ (PhotoMask Japan) 2014, Digest paper 7s-12 p39, 15 April, Yokohama, Japan.
  • Yosuke Sakurai, Akira Kawai, "Functional Perflurosulfonic Acid (PFSA) Micro Pattern fabrication for Micro Fuel Cell",The 3rd International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN2014), Japan, MP-7, Abstract p170 (2014).
  • Yosuke Sakurai, Akira Kawai, "Single Chip Micro Direct Methanol Fuel Cell (SC-mDMFC)", The 3rd International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN2014), Japan, SP-6, Abstract p211 (2014).
  • Hiroki Nakano, Yosuke Sakurai, Akira Kawai, "Fabrication of Functional Membrane Electrode Assembly (MEA) by Lithography Process", 40th Micro and Nano Engineering (MNE2014), Lausanne, Switzerland, (2014)
  • Akira Kawai, Katsuaki Yamane, Masaya Shinozaki, Yosuke Sakurai, "Fuel Cell Operation in Liquid Environment by Gas-Liquid Interface Control System", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Wed-C2-162 (2016)
  • Katsuaki Yamane, Tomohiro Maruyama, Yosuke Sakurai, Akira Kawai, "Development of Micro Cone Shape Tube Utilizing for Gas Trap Sysytem", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Thu-C11-223 (2016)
国内学会
  • 桜井 洋輔、河合 晃:シート型直接メタノール燃料電池(DMFC)の外部荷重による発電基礎特性、電気学会 基礎・材料・共通部門大会、要旨集、P-22 (2011)
  • Yosuke Sakurai, Daisuke Tanaka, Shunsuke Ohata, Akira Kawai:Single Chip Micro Direct Methanol Fuel Cell (SC-μDMFC) composed with Multilayer Structure,電気学会センサ・マイクロマシン部門 第30回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム, 5PM3-PSS-119 (2013).
  • 桜井洋輔、河合 晃:リソグラフィプロセスを用いた燃料電池用電解質のマイクロパターン形成、第23回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、I-13、P15(2013)
海外での教育研究活動
  • ハワイ/米国(国際学会)
  • ソウル/韓国(研修)
野口 悠太 Yuta Noguchi

2014年 修士課程修了

修士論文

薄膜マイクロヒーターのパターン化による局所加熱システム

受賞
  • 学生表彰(平成23年度 長岡技術科学大学) 2012年
  • 電気学術奨励賞(平成23年年度 電気学会 東京支部新潟支所) 2012年
  • 優秀発表賞(平成25年 電気学会東京支部新潟支所研究発表会) 2013年
  • 学生表彰(平成25年度 長岡技術科学大学) 2014年
  • 電気系長賞(平成25年度 長岡技術科学大学) 2014年
原著論文
  • Yuta Noguchi, Akira Kawai, "Surface Stability of SU-8 for Accurate Biopotential Detection", J. Photopolymer Science and Technology, 25, 719-722 (2012).
  • Yuta Noguchi, Akira Kawai, "Local Heating System Integrated with Platinum Micro Heater and Photopolymer Microfluidic Channel", J. Photopolymer Science and Technology, 26(6), 713-716 (2013).
  • Yuta Noguchi, Kenta Takahashi, Akira Kawai, "Micro Pinhole Formation in Photoresist Multilayer Structure controlled with Hydrophilic Treatment", J. Photopolymer Science and Technology, 26(6), 739-744 (2013).
国際学会
  • Yuta Noguchi, Akira Kawai, "Monitoring and Modeling for Response Time of Biopotential in Plant Cells", The Electrochemical Society, Abstract #69, Honolulu PRiME 2012.
  • Yuta Noguchi, Akira Kawai, "A SU-8 Photoresist Film as Electrical Stable Layer in Liquid Environment", MP-11, The 2nd International GIGAKU Conference in Nagaoka (2013).
  • *, Natsumi Yagi, Yuta Noguchi, Akira Kawai, "Combination of Micro-Heater and Water Channel Device and Its Application to Plant Cell Vital Control", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Wed-C2-160 (2016)
国内学会
  • 野口悠太、河合 晃:植物内の細胞間電位の測定とモニタリング、電気学会 電子・情報・システム部門大会、講演予稿集、PS2-1、P1561 (2011)
  • Yuta Noguchi, Akira Kawai:Micro local heating system integrated with surround microfluidic channel,電気学会センサ・マイクロマシン部門 第30回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム, 6PM3-PSS-128 (2013).
  • 野口悠太、河合 晃:マイクロヒータ/チャネルデバイスの局所加熱特性、第23回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、IV-09、P59(2013)
海外での教育研究活動
  • ハワイ/米国(国際学会)
  • ソウル/韓国(研修)
福本 有輝 Yuki Fukumoto

2014年 修士課程修了

修士論文

植物電位モニタリング用システムの開発

鎌田 隼 Shun Kamada

2014年 学部卒業

卒業論文

光活性表面で制御する機能型マイクロチャネルネットワーク

国際学会
  • Shun Kamada,Akira Kawai, "Surface energy analysis of Indium Tin Oxide (ITO) thin films on annealing treatment",第23回電気学会東京支部新潟支所研究発表会,IEEE-07,予稿集, P73 (2013).
国内学会
  • Shun Kamada, Akira Kawai:Surface energy analysis of TiO2 film activated by UV irradiation,電気学会センサ・マイクロマシン部門 第30回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム,5PM3-PSS-115 (2013).
  • 鎌田 隼、河合 晃:紫外線照射による酸化チタン膜表面の活性化、第23回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、I-15、P17(2013)
相場 崇 Takashi Aiba

2013年 修士課程修了

修士論文

有機/無機ハイブリッド型MEMS構造の開発

受賞
  • 電気系長賞(平成24年度 長岡技術科学大学) 2013年
原著論文
  • Takashi Aiba, Akira Kawai, Micro, "Cantilever Motion in Micro Pattern Peeling by DPAT Method", J. Photopolymer Science and Technology, 25(6), 729-733 (2012).
国際学会
  • Takashi Aiba, Akira Kawai, "Peeling Force of Polymer Micro Pattern by Direct Peeling by using AFM Tip (DPAT)", The Electrochemical Society, Abstract #68, Honolulu PRiME 2012.
国内学会
  • 相場 崇、河合 晃:X線光電子分光法(XPS)によるSi基板上のシランカップリング処理層の再生評価と制御、電気学会 電子・情報・システム部門大会、講演予稿集、GS10-3、P1424 (2011)
海外での教育研究活動
  • ハワイ/米国(国際学会)
森田 直也 Naoya Morita

2012年 修士課程修了

修士論文

燃料電池における高分子電解質膜/触媒ナノ粒子間のナノ界面制御

国内学会
  • 森田直也、河合 晃:メタノール水溶液中での高分子膜内の微小電流解析、電気学会 基礎・材料・共通部門大会、要旨集、P-27 (2011)
森永 和也 Kazuya Morinaga

2012年 修士課程修了

修士論文

多電極を有する小型燃料電池(DMFC)の高機能化

受賞
  • 電気学術奨励賞(平成21年年度 電気学会 東京支部新潟支所) 2010年
国内学会
  • 森永和也、河合 晃:メタノール水溶液中でのワイヤー電極の電位検出、電気学会 電子・情報・システム部門大会、講演予稿集、GS10-5 (2011)
笹崎 大生 Hiroki Sasazaki

2011年 修士課程修了

修士論文

マイクロバブル型MEMSメモリの開発

受賞
  • 優秀賞(第1回燕三条学生ビジネスオーディション) 2008年
原著論文
  • Akira Kawai, Junko Kawakami, Hiroki Sasazaki, "Surface Energy change of Si(100) Wafer by Exposing to Air", J. Photopolymer Sci. Technol, 21(6), 739-740 (2008).
  • Hiroki Sasazaki, Akira Kawai, "Dielectric dispersion analysis of resist layer", J. Photopolymer Science and Technology, 22(3), 317-320 (2009).
国際学会
  • Hiroki Sasazaki, Akira Kawai, "Trap control of micro bubbles on patterned wall surface", ACA2009 (The third Asian Conference on Adhesion) Hamamatsu, PA30, p192-193.
  • Akira Kawai, Tomomi Nishimura, Hiroki Sasazaki, "Optical fringe pattern observed on condensed micro water droplets", ACA2009 (The third Asian Conference on Adhesion) Hamamatsu, PB29, p188-191.
  • Hiroki Sasazaki, Takahiro Kato, Akira Kawai, Katsuyoshi Hamasaki, "Frequency dispersion of dielectric constant of liquid nitrogen", ACA2009 (The third Asian Conference on Adhesion) Hamamatsu, PA29, p186-187.
  • Hiroki Sasazaki, Akira Kawai, "Relaxation properties of dielectric dipoles of photo resist materials", International Conference of SPIE Lithogtaphy Asia 2009 (Taipei, Taiwan) , Proc. SPIE, vol.7520, 75202X-1~7.
  • Hiroki Sasazaki, Akira Kawai, "Micro bubble removal from micro pattern structure under alternating electric field", International Conference of SPIE Lithogtaphy Asia 2009 (Taipei, Taiwan) , Proc. SPIE, vol.7520, 75202Z-1~11.
  • Akira Kawai, Hodaka Shirataki, Hiroki Sasazaki, Shogo Ohtani, "Dielectric Dispersion Analysis of Resist Materials by Parallel Plate Capacitor Structure", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Thu-C7-211 (2016)
国内学会
  • 笹崎大生、加藤孝弘、河合 晃、濱崎勝義、静電容量測定による液体窒素の誘電率の周波数分散特性、平成20年度(第18回)電気学会東京支部新潟支所研究発表会,p90 (2008).
  • 笹崎大生、河合 晃:レジスト膜の誘電分散特性、第26回フォトポリマーコンファレンス、マイクロリソグラフィとナノテクノロジー、B5-11、千葉、(2009)
  • 白瀧穂高、河合 晃、大谷翔吾、笹崎大生:リソグラフィ用レジスト材料の誘電分散特性、第77回応用物理学会秋季学術講演会、14p-P16-3(2016)
展示会
  • 2009 技術シーズプレゼンテーション in 新発田 (マイクロバブルセンサ)
小野 哲矢 Tetsuya Ono

2011年 修士課程修了

修士論文

MEMS機能を有する基板表面での微小液滴の付着制御

受賞
  • 電気系長賞(平成22年度 長岡技術科学大学) 2011年
原著論文
  • Tetsuya Ono, Akira Kawai, "Free fall Mechanism of Micro Liquid Droplet", J. Photopolymer Science and Technology, 23,(3), 363-366 (2010).
国内学会
  • 小野哲矢、河合 晃:微小液滴の自由落下メカニズム解析、第20回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅱ-02、P10(2010)
  • 小野哲矢、河合 晃:固体上での落下液滴の付着性、第20回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅱ-03、P11(2010)
  • 小野哲矢、河合 晃:微小液滴の自由落下メカニズム解析、第27回フォトポリマーコンファレンス、マイクロリソグラフィとナノテクノロジー、B4-02、(千葉) 2010
展示会
  • セミコンジャパン2009
大畑 俊輔 Shunsuke Ohata

2011年 修士課程修了

修士論文

MEMS技術を用いたマイクロ燃料電池(DMFC)の出力安定化

原著論文
  • Shunsuke Ohata, Akira Kawai, "Dielectric Property of Solution Analyzed by using pn-junction Array", J. Photopolymer Science and Technology, 23,(3), 367-370 (2010).
  • Yosuke Sakurai, Daisuke Tanaka, Shunsuke Ohata, Akira Kawai, "Fabrication and Durability of Single Chip Micro Direct Methanol Fuel Cell (SC-μDMFC) by Photolithography Process", J. Photopolymer Science and Technology, 26(6), 751-756 (2013).
国際学会
  • Shunsuke Ohata, Akira Kawai, "Micro bubble condensation in micro channel controlled by local electrical field method", International Conference of SPIE Lithogtaphy Asia 2009 (Taipei, Taiwan) , Proc. SPIE, vol.7520, 752034-1~11.
  • Yosuke Sakurai, Daisuke Tanaka, Shunsuke Ohata, Akira Kawai, "Photoresist/Pt Electrode/Perflurosulfonic Acid (PFSA) Multilayer Structure for Single Chip Micro Direct Methanol Fuel Cell (SC-μDMFC)", 26th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2013), Abstract #8P-11-128L, (2013).
  • Yosuke Sakurai, Daisuke Tanaka, Shunsuke Ohata, Akira Kawai, "Single chip micro direct methanol fuel cell (SC-μDMFC) fabricated by MEMS Process", 第23回電気学会東京支部新潟支所研究発表会,IEEE-07,予稿集, P72 (2013).
国内学会
  • 大畑俊輔、河合 晃:PN接合アレイを用いた溶液の誘電特性解析、第27回フォトポリマーコンファレンス、マイクロリソグラフィとナノテクノロジー、B4-03、(千葉) 2010
海外での教育研究活動
  • 台北/台湾(国際学会)
山田 昌佳 Masayoshi Yamada

2011年 修士課程修了

修士論文

超音波駆動型MEMSによる微粒子群 (疑似血栓) の分散化

受賞
  • 特別奨励賞(燕・三条「学生」ビジネスアイディアオーディション2009)
  • Young Researcher Poster Presentation Award(IEEE Shin-etsu Section, 2011)
  • 学生表彰(平成22年度 長岡技術科学大学) 2011年
  • 電気系長賞(平成22年度 長岡技術科学大学) 2011年
原著論文
  • Masayoshi Yamada, Akira Kawai, "Characterization of Resist Micro Pattern Adhesion by Applying Ultrasonic Vibration", J. Photopolymer Science and Technology, 23,(3), 435-438 (2010).
  • 山田昌佳、河合 晃、大澤義征、宝泉俊寛, 「超音波プローブ振動法によるはんだバンプの付着性解析」, Microjoining and Assembly Technology in Electronics (Mate), 93-98 (2010)
  • Masayoshi Yamada, Akira Kawai, "Micro Polymer Capsule Constructed with Micro Pillars Formed by Multi Laminating Method", J. Photopolymer Science and Technology, 24(6), 647-650 (2011).
国際学会
  • Masayoshi Yamada, Akira Kawai, "Adhesion Analysis of Resist Pattern by Applying Ultrasonic Vibration", 第20回電気学会東京支部新潟支所研究発表会, IEEE-07, 予稿集, P27 (2010).
国内学会
  • 山田昌佳、河合 晃:超音波プローブ振動法によるはんだバンプの付着性解析、第20回 電気学会東京支部新潟支所研究発表会、12p (2010)
  • 山田昌佳、河合 晃:超音波による眼鏡フレームの共振解析、第20回 電気学会東京支部新潟支所研究発表会、56p (2010)
  • 山田昌佳、河合 晃:超音波振動法によるレジストパターンの特性解析、第27回フォトポリマーコンファレンス、マイクロリソグラフィとナノテクノロジー、B4-17、(千葉) 2010
  • 河合 晃、山田昌佳、大澤義征、宝泉俊宏:超音波プローブ振動法によるはんだバンプの付着性解析、Mate2010(第16回 「エレクトロニクスにおけるマイクロ接合・実装技術」 シンポジウム)
ヌル イッザティ ビンティ ザカリア Nur Izzati Binti Zakariah

2011年 学部卒業

卒業論文

超音波を利用した気液界面制御

高野 覚啓 Akihiro Takano

2010年 修士課程修了

修士論文

pHコントロール型バイオMEMSの開発

受賞
  • 学生表彰(平成21年度 長岡技術科学大学) 2010年
  • 電気系長賞(平成21年度 長岡技術科学大学) 2010年
原著論文
  • Akira Kawai, Akihiro Takano, "Spreading of Liquid Drop on Resist Film Surface", J. Photopolymer Sci. Technol., 21(6), 759-760 (2008).
  • Akihiro Takano, Akira Kawai, "Analysis of self-standing structure composed by thick resist layer", J. Photopolymer Science and Technology, 22, 561-564 (2009).
国際学会
  • Akihiro Takano, Akira Kawai, "Analysis of self-standing structure composed by thick resist layers", International symposium on materials & processes for advanced microlithography and nanotechnology 2009, Chiba, Japan.
  • Akihiro Takano, Akira Kawai, "Fabrication of micro-channel network composed with polymer material", ACA2009 Tthe third Asian Conference on Adhesion). Hamamatsu, PB27, p176-179.
  • Akihiro Takano, Akira Kawai, "Dissolved oxygen concentration (DOC) monitoring in deionized water by electrolysis methid", ACA2009 Tthe third Asian Conference on Adhesion). Hamamatsu, PA28, p180- p181.
  • Akira Kawai, Fumi Fujita, Akihiro Takano, "Nanoscale lithograph of Si surface with micro tip depending on surface adsorption water", ACA2009 (The third Asian Conference on Adhesion) Hamamatsu, PB28, p182-185.
  • Akihiro Takano, Akira Kawai, "Durability of self-standing resist sheet composed with micro holes", International Conference of SPIE Lithogtaphy Asia 2009 (Taipei, Taiwan) , Proc. SPIE, vol.7520, 752032-1~9.
  • Akihiro Takano, Akira Kawai, "PH control of water fl owing in micro structure by local electrical field method", International Conference of SPIE Lithogtaphy Asia 2009 (Taipei, Taiwan) , Proc. SPIE, vol.7520, 752033-1~9.
  • Akira Kawai, Akihiro Takano, Kenta Takahashi, "Removal Property of Micro Bubbles Trapped on Resist Window Pattern by Dipping Into Low Surface Tension Developer", 40th Micro and Nano Engineering (MNE2014)(2014) Lausanne, Switzerland.
国内学会
  • 高野覚啓、河合 晃:純水中のイオン電流測定による溶存酸素濃度モニタリング、平成20年度(第18回)電気学会東京支部新潟支所研究発表会,p129 (2008).
海外での教育研究活動
  • 台北/台湾(国際学会)
イジアン ナデラ Izyan Nadirah

2010年 学部卒業

卒業論文

AFMによる高分子膜表面のナノスケール粘弾性解析

田中 大祐 Daisuke Tanaka

2009年 修士課程修了

修士論文

機能性電極による気液界面制御型マイクロ燃料電池の開発

受賞
  • 学生表彰(平成20年度 長岡技術科学大学)2009年
  • 電気系長賞(平成20年度 長岡技術科学大学)2009年
原著論文
  • Akira Kawai, Daisuke Tanaka, Sachito Matsubara, Masayoshi Ogata, Kazutoshi Tachibana, "Wetting control of polymer solution on roughned solid surface by wet-blust technique", J. Photopolymer Science and Technology, 21(1), 37-42 (2008).
  • Akira Kawai, Daisuke Tanaka, Tomotaka Ariga, "Micro channel device composed by fry film resist", J. Photopolymer Science and Technology, 21(1), 43-46 (2008).
  • Daisuke Tanaka, Akira Kawai, "Flowing control of micro bubbles in DFR micro fluidic channel formed on metal /insulatro composit substrate", J. Photopolymer Science and Technology, 21(1), 63-68 (2008).
  • Akira Kawai, Daisuke Tanaka, zz1Micro Bubble Removal depending on Glass Cleanness", J. Photopolymer Sci. Technol., 21(6), 727-728 (2008).
  • Akira Kawai, Hotaka Endo, Daisuke Tanaka, "Pinning Effects of Micro Bubbles adhered on Resist Substrate", J. Photopolymer Science. Technol., 21(1), 753-754 (2008).
  • Yosuke Sakurai, Daisuke Tanaka, Shunsuke Ohata, Akira Kawai, "Fabrication and Durability of Single Chip Micro Direct Methanol Fuel Cell (SC-μDMFC) by Photolithography Process", J. Photopolymer Science and Technology, 26(6), 751-756 (2013).
国際学会
  • Yosuke Sakurai, Daisuke Tanaka, Shunsuke Ohata, Akira Kawai, "Photoresist/Pt Electrode/Perflurosulfonic Acid (PFSA) Multilayer Structure for Single Chip Micro Direct Methanol Fuel Cell (SC-μDMFC)", 26th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2013), Abstract #8P-11-128L, (2013).
  • Yosuke Sakurai, Daisuke Tanaka, Shunsuke Ohata, Akira Kawai, "Single chip micro direct methanol fuel cell (SC-μDMFC) fabricated by MEMS Process", 第23回電気学会東京支部新潟支所研究発表会,IEEE-07,予稿集, P72 (2013).
国内学会
  • 田中大祐、山中雅貴、河合 晃:試作した縮小投影露光装置を用いた3μmルールリソグラフィー技術の開発、第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P415 (2007)
  • 河合 晃、田中大祐、松原雅淑、小方雅淑、橘 和寿:ウェットプラスト技術により作製された微細凹凸表面でのポリマー溶液の濡れ性制御、The 25th International Conference of Photopolymer Science and Technology Materials Processes for Advanced Microlithography and Nanotechnology (ICPST-25), Chiba, Japan, B5-01 (2008)
  • 河合 晃、田中大祐、有賀智崇:DFRを用いた微小チャンネルデバイス、The 25th International Conference of Photopolymer Science and Technology Materials Processes for Advanced Microlithography and Nanotechnology (ICPST-25), Chiba, Japan, B5-02 (2008)
  • 田中大祐、河合 晃: 金属/絶縁膜の複合基板上に作製したDFRマイクロ流路内の気泡流れ制御、 The 25th International Conference of Photopolymer Science and Technology Materials Processes for Advanced Microlithography and Nanotechnology (ICPST-25), Chiba, Japan, B5-03 (2008)
  • 田中大祐、河合 晃、バブル法による液中ガス溶解度解析、平成20年度(第18回)電気学会東京支部新潟支所研究発表会、p51 (2008)
山路 貴司 Takashi Yamaji

2009年 修士課程修了

修士論文

ダイヤフラム駆動型マイクロ流体制御MEMSの開発

受賞
  • 電気系長賞 (平成20年度 長岡技術科学大学)2009年
原著論文
  • Akira Kawai, Takashi Yamaji, Hiroshi Horiguchi, "Adsouption of micro tip on various surface energy substrates", J. Photopolymer and Science and Technology, 21(1), 85-88 (2008).
  • Takashi Yamaji, Akira Kawai, "Non-contact deformation of micro resist pattern due to van der Waals force", J. Photopolymer Science and Technology, 21(1), 89-94 (2008).
  • Akira Kawai, Takashi Yamaji, "Internal Stress of Dry Film Resist in Multilayer Structure", J. Photopolymer Sci. Technol., 21(6), 725-726 (2008).
  • Akira Kawai, Masahito Hirano and Takashi Yamaji, "Nano-scale Deformation of Resist Film Surface by Humidifying and Drying Processes", J. Photopolymer Sci. Technol., 21(6), 737-738 (2008).
国際学会
  • Akira Kawai, Takashi Yamaji, "Spontaneous deformation of resist micro pattern due to van der Waals interaction", International Conference of SPIE Lithogtaphy Asia 2009 (Taipei, Taiwan) , Proc. SPIE, vol.7520, 75202Y-1~12.
国内学会
  • 山路貴司、河合 晃:10nm以下の極近接領域で作用する固体の引力と変位解析、第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P9 (2007)
  • 河合 晃、山路貴司、堀口博司:様々な表面エネルギーを有する基板上での微小深針の吸着特性、The 25th International Conference of Photopolymer Science and Technology Materials Processes for Advanced Microlithography and Nanotechnology (ICPST-25), Chiba, Japan, B5-04 (2008)
  • 山路貴司、河合 晃:ファンデルワールス相互作用に基づくレジストパターンの非接触変形、The 25th International Conference of Photopolymer Science and Technology Materials Processes for Advanced Microlithography and Nanotechnology (ICPST-25), Chiba, Japan, B5-05 (2008)
  • 山路貴司、河合 晃:マスクシフト型異方性エッチングによるSi(100)面の真円加工、平成20年度(第18回)電気学会東京支部新潟支所研究発表会,p86 (2008)
エクスリヤ ペットプーチャイ Eksouriya Phetphouchay

2009年 学部卒業

卒業論文

組み合わせ型太陽電池デバイスの作製

国内学会
  • 河合 晃、エクスリヤ ペットプーチャイ:アニール処理中のシリコン基板の表面酸化抑制、平成20年度(第18回)電気学会東京支部新潟支所研究発表会,p128 (2008).
田中 竜太朗 Ryotaro Tanaka

2009年 学部卒業

卒業論文

はんだBGAに形成される微小ボイドの挙動解析

国内学会
  • 田中竜太郎、久保田陽満、河合 晃:シード層によるCuメッキ薄膜の成長促進メカニズム、第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P101 (2007)
倉野 一俊 Kazutoshi Kurano

2008年 修士課程修了

修士論文

カプセル型MEMSの構築と帯電浮遊微粒子の捕獲・再飛散抑制

受賞
  • IEEE優秀論文発表賞 第17回電気学会東京支部新潟支所(2007)
  • 優秀発表賞 第16回電気学会東京支部新潟支所(2006)
原著論文
  • Kazutoshi Kurano, Takahiro Kishioka, Yoshiomi Hiroi, Takuya Ohashi, Akira Kawai "Deformation analysis of ArF resist pattern by using AFM" J. Photopolymer Science and Technology, 20, 827-828 (2007)
  • Kazutoshi Kurano, Takahiro Kishioka, Yoshiomi Hiroi, Takuya Ohashi, Akira Kawai" Peeling analysis of ArF resist pattern on BARC by using AFM" J. Photopolymer Science and Technology, 20, 825-826 (2007)
国内学会
  • 倉野一俊、河合 晃、環境制御型走査電子顕微鏡(ESEM)を用いた直系10μm微粒子間のメニスカス操作による再配列技術の開発、、第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P4 (2007)
  • 倉野一俊、河合 晃、液中動作MEMSデバイス内の微細パターン構造の破壊抑制、第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P103 (2007)
  • Kazutoshi Kurano, Takahiro Kishioka, Yoshiomi Hiroi, Takuya Ohashi, Akira Kawai、New analysis method of peeling process of 100nm width ArF resist pattern by using AFM, 第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P118 (2007)
  • 河合 晃、倉野一俊:液滴の凍結により形成される特異形状の解析、春季第53回応用物理学関係連合講演会、25a-ZB-11, 講演予稿集、No.2, (2006).
  • 倉野一俊、河合 晃:微小液滴の凍結コントロールによる液体カプセルの作製、、第16回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集I-3 、P 5 (2006).
  • 河合 晃、倉野一俊、鈴木健太、原子間力顕微鏡(AFM)によるナノバブルの付着凝集解析、、日本接着学会第45回年次大会、講演予稿集、P20B、p39(2007)
  • 倉野一俊、河合 晃、微小液滴の冷却過程とカプセル化、日本接着学会第45回年次大会、講演予稿集、P49A、p37(2007)
黒田 真吾 Shingo Kuroda

2008年 修士課程修了

修士論文

電界制御型うなり振動プローブの作製と地盤振動スペクトル検出

原著論文
  • Shingo Kuroda, Tomohiro Goto, Osamu Tamada, Masakazu Sanada, Akira Kawai"Analysis of interface condition between BARC and resist film by FT-IR/ATR、J. Photopolymer Science and Technology, 20, 807-808 (2007)
国内学会
  • 黒田真吾、河合 晃、自己振動プローブ機構を用いた地震振動スペクトルの新規検出システムの開発、第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P8 (2007)
  • 黒田真吾、河合 晃、擬似欠陥マスクを用いたSi異方性エッチング形状異常の発生メカニズム、第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P102 (2007)
  • Shingo Kuroda, Tomohiro Goto, Osamu Tamada, Masakazu Sanada, Akira Kawai、第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P119 (2007)
  • 河合 晃、黒田真吾:電界制御による微細プローブの変位コントロール、第16回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、I-10 、P12 (2006)
久保田 陽満 Harumitsu Kubota

2008年 学部卒業

原著論文
  • Harumitsu Kubota, Akira Kawai"Native oxide growth on Si(100) surface in liquid environment"J. Photopolymer Science and Technology, 20, 823-824 (2007)
国内学会
  • 久保田陽満、河合 晃、10.3μmφシリカ粒子表面への銅薄膜メッキ技術の開発、第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P100 (2007)
  • 久保田陽満、大澤義征、河合 晃、20~200μm線幅のドライフィルムレジスト(DFR)パターン付着力の直接剥離測定法の開発、第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P199 (2007)
  • 久保田陽満、河合 晃、局所電界印加法による基板上に付着した10.3μmφシリカ粒子の非接触除去、第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P3 (2007)
  • 河合 晃、久保田陽満 、大気中および水中でのSi(100)表面の自然酸化膜の成長、第16回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集I-4 、P 6 (2006)
有賀 智崇 Tomotaka Ariga

2007年 修士課程修了

修士論文

表面張力制御による3次元微細構造の破壊抑制と混合濾過システムの開発

原著論文
  • Akira Kawai, Hotaka Endo, Tomotaka Ariga"Condensation mechanism of microbubbles depending on DFR pattern design"Microelectronic Engineering, 83, 1167-1169 (2006).
  • Akira Kawai, Daisuke Tanaka, Tomotaka Ariga, "Micro channel device composed by fry film resist", J. Photopolymer Science and Technology, 21, 43-46 (2008).
国際学会
  • Akira Kawai, Hotaka Endo, Tomotaka Ariga, "Condensation mechanism of microbubbles depending on DFR pattern design", 31st International Conference on Micro- and Nano-Engineering 2005 (MNE2005), Vienna, Austria, Abstracts, 3-l_07 (2005).
  • Akira Kawai, Tomotaka Ariga, Shinpei Hori, Masahiko Harumoto, Osamu Tamada, Masakazu Sanada"Trap mechanism of micro bubbles in micro concave patterns"SPIE ML-6153-66, SPIE 2006, International Symposium on Microlithography, San Jose, California, Proc. SPIE, Microlithography, Advences in Resist Technology and Processing XXⅡ (2006).
  • Natsumi Yagi, *, Tomotaka Ariga, Hotaka Endo, Akira Kawai, "Bubble Trap Analysis for Smooth Fluid Flowing in Micro Channel / Tube Network", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Wed-C2-161 (2016)
国内学会
  • 有賀智崇、河合 晃:低表面張力液体中におけるマイクロバブルの成長に起因した微細デバイス構造の破壊、第16回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、I-14、P16 (2006).
海外での教育研究活動
  • ウィーン/オーストリア(国際学会)
鈴木 健太 Kenta Suzuki

2007年 修士課程修了

修士論文

基板と液滴とのコンタクトライン近傍での濡れ/乾燥挙動解析

受賞
  • 電気系長賞(長岡技術科学大学)
  • ベストポスター賞(第43回日本接着学会年会)2005年
  • 特別優秀賞(第15回電気学会東京支部新潟支所研究発表会)2005年
原著論文
  • Akira Kawai, Kenta Suzuki"Dot pattern collapse due to Laplace force analyzed by dynamical meniscus model" J. Photopolymer Sci. Technol, 18, (6) 679-680 (2005).
  • Akira Kawai, Kenta Suzuki"Removal mechanism of nano-bubble with AFM for immersion lithography"Microelectronic Engineering, 83, 655-658 (2006).
  • Akira Kawai and Kenta Suzuki"Effect of low surface tension liquid on pattern collapse analyzed by dynamic meniscus observation"Jpn. J. Appl. Phys. 45, 5429-5434 (2006).
  • Kenta Suzuki, Akira Kawai"Micro bubbles formed on ArF excimer resist surface detected by tip scanning method"J. Photopolymer Science and Technology, 20, 805-806 (2007).
  • Akira Kawai, Kenta Suzuki"Bubbles Condensed at Water/Resist Interface Analyzed by Atomic Force Microscopy, J. Photopolymer Science and Technology, 20, 673-678 (2007).
国際学会
  • Akira Kawai, Kenta Suzuki, "Removal analysis of nano-bubbles with AFM for immersion lithography", 31st International Conference on Micro- and Nano-Engineering 2005 (MNE2005), Vienna, Austria, Abstracts, 3-a_03 (2005).
  • Akira Kawai, Kenta Suzuki, "Effect of low surface tension liquid on pattern collapse analyzed by dynamic meniscus observation", 2005 International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2005), Tokyo, Japan, Digest of papers, 27A-5-4, P70 (2005).
  • Akira Kawai, Hotaka Endo, Masaki Yamanaka, Atsushi Ishikawa, Kenta Suzuki"Adhesion and removal of micro bubbles for immersion lithography"SPIE ML6135-65,SPIE 2006, International Symposium on Microlithography, San Jose, California, Proc. SPIE, Microlithography, Advences in Resist Technology and Processing XXⅡ (2006).
  • Akira Kawai and Kenta Suzuki "Bubbles condensed at resist/water interface analyzed by atomic force microscopy" International symposium on materials & processes for advanced microlithography and nanotechnology 2006, Chiba, Japan (2007).
国内学会
  • 河合 晃、丹治隆志、新山雄俊、鈴木健太:微細探針のインデンテーション法による高分子パターンの表面硬化層の解析、日本接着学会第43回年次大会、講演要旨集、P17A (2005).
  • 河合 晃、石川厚志、新山雄俊、鈴木健太:原子間力顕微鏡(AFM)による純水中の微小気泡の付着・脱離制御、日本接着学会第43回年次大会、講演要旨集、P16B (2005).
  • 河合 晃、鈴木健太:直径50nm以下の液中ナノバブルの観察技術および付着安定性の確立、、第15回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅱ-04、P40、(2005).
  • 鈴木健太、河合 晃:マイクロバブルの溶解挙動に基づく基板表面近傍での溶存ガス濃度の解析法、第16回電気学会東京支部新潟支所研究発表会予稿集、I-15、P17 (2006).
  • 河合 晃、倉野一俊、鈴木健太、原子間力顕微鏡(AFM)によるナノバブルの付着凝集解析、、日本接着学会第45回年次大会、講演予稿集、P20B、p39(2007)
特許
  • 鈴木健太、河合 晃、ナノ気泡の判別方法及びその装置、特願2007-293673号(2007)
海外での教育研究活動
  • ウィーン/オーストリア(国際学会)
森内 貴広 Takahiro Moriuchi

2007年 修士課程修了

修士論文

表面硬化層内の高分子集合体の凝集制御によるレジストパターンの微細化

原著論文
  • Akira Kawai, Takahiro Moriuchi"Non-contacting deformation (NCD) of line resist pattern due to interaction force with AFM tip, J. Photopolymer Science and Technology, 20, 777-780 (2007).
  • Akira Kawai, Takahiro Moriuchi, Takayoshi Niiyama, Takahiro Kishioka, Daisuke Maruyama, Yasushi Sakaida, Takashi Matsumoto, "Adhesion improvement of ArF resist pattern depending on BARC material"Microelectronic Engineering, 83, 659-662 (2006).
  • Akira Kawai, Takahiro Moriuchi, "Deflection analysis of micro cantilever due to water vapor adsorption" J. Photopolymer Sci. Technol, 18, (6) 681-682 (2005).
国際学会
  • Akira Kawai, Takahiro Moriuchi, Takayoshi Niiyama, Takahiro Kishioka, Daisuke Maruyama, Yasushi Sakaida, Takashi Matsumoto, "Adhesion improvement of ArF resist pattern depending on BARC material", 31st International Conference on Micro- and Nano-Engineering 2005 (MNE2005), Vienna, Austria, Abstracts, 3-a_04 (2005).
  • Akira Kawai, Takayoshi Niiyama, Takahiro Moriuchi, "Non-contacting deformation of isolated resist pattern due to interaction force analyzed by atomic force microscope",2005 International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2005), Tokyo, Japan, Digest of papers, 27P-7-10, P118 (2005).
  • Osamu Tamada, Tomohiro Goto, Masakazu Sanada, Takahiro Moriuchi, Akira Kawai"Analysis of the effect of mechanical strength of the resist film on pattern collapse behavior using atomic force microscope"SPIE 2006, International Symposium on Microlithography, San Jose, California, Proc. SPIE, Microlithography, Advences in Resist Technology and Processing XXⅡ (2006).
中長 英明 Hideaki Nakacho

2007年 学部卒業

卒業論文

大気中放電デバイスの集積化

ノルバヤ ビンティ ハサン Norbaya Binti Hasan

2007年 学部卒業

卒業論文

原子間力顕微鏡(AFM)によるHamaker定数の測定

ムハマド シャリーザ サフィルツ ビン カシム Muhammad Shahreeza Safiruz Bin Kassim

2007年 学部卒業

卒業論文

はんだバンプの機械的特性の解析

竹石 知史 Tomofumi Takeishi

2006年 学部卒業

卒業論文

位相シフト法による高アスペクト比パターンの形成

石川 厚志 Atsushi Ishikawa

2005年 修士課程修了

修士論文

原子間力顕微鏡を用いたナノ凝集体への溶液の浸透メカニズム解析

受賞
  • The Best Paper Award of the year 2005 (Photopolymer Science and Technology award)
原著論文
  • Atsushi Ishikawa, Takashi Tanji and Akira Kawai,"Cohesion property of polymer aggregate depending on hardening treatment",J. Photopolymer Sci. Technol, 17, 99-102 (2004).
  • Atsushi Ishikawa, Makoto Sakata and Akira Kawai,"Meniscus analysis in microgap during liquid drying process"J. Photopolymer Sci. Technol, 17, 457-460 (2004).
  • Atsushi Ishikawa, Takashi Tanji, Akira Kawai"Determination of Young's modulus of plymer aggregate based on Hertz theory"J. Photopolymer Sci. Technol, 17, (5) 715-718 (2004).
  • Atsushi Ishikawa, Akira Kawai, Condensation of Nano-Size Polymer Aggregates by Spin Coating, J. Adhesion and Interface, vol.6 (1) 7-10 (2005).
国際学会
  • Atsushi Ishikawa, Makoto Sakata and Akira Kawai, "Meniscus analysis in microgap during liquid drying process", International symposium on materials & processes for advanced giga-bit-scale lithography 2004, A-23, Chiba, Japan (2004).
  • Akira Kawai and Atsushi Ishikawa, "Thermal deformation of novolak resist pattern", Proceeding of 2004 Beijing International Bonding Technology Symposium (CSB2004), P05-1~3
  • Atsushi Ishikawa, Akira Kawai, "Condensation of nano-size polymer aggregates by spin drying", Proceeding of 2004 Beijing International Bonding Technology Symposium (CSB2004), P06-1~7
  • Akira Kawai, Atsushi Ishikawa, Takayoshi Niiyama, Masahiko Harumoto, Osamu Tamada, Masakazu Sanada,
    "Adhesion and removal behavior of nanoscale bubble on resist film surface for immersion lithography",
    SPIE 2005, International Symposium on Microlithography, San Jose, California, Proc. SPIE, Microlithography, Advences in Resist Technology and Processing XXⅡ (2005).
  • Masakazu Sanada, Osamu Tamada, Atsushi Ishikawa, Akira Kawai,
    "Analysis for collapse behavior of resist pattern in short development time process using atomic force microscope",
    SPIE 2005, International Symposium on Microlithography, San Jose, California, Proc. SPIE, Microlithography, Advences in Resist Technology and Processing XXⅡ (2005).
  • Osamu Tamada, Masakazu Sanada, Atsushi Ishikawa, Akira Kawai ,
    "Mechanical strength of resist film analyzed by tip indentation method",
    SPIE 2005, International Symposium on Microlithography, San Jose, California, Proc. SPIE, Microlithography, Advences in Resist Technology and Processing XXⅡ (2005).
  • Akira Kawai, Hotaka Endo, Masaki Yamanaka, Atsushi Ishikawa, Kenta Suzuki"Adhesion and removal of micro bubbles for immersion lithography"SPIE ML6135-65,SPIE 2006,International Symposium on Microlithography, San Jose, California, Proc. SPIE, Microlithography, Advences in Resist Technology and Processing XXⅡ (2006).
国内学会
  • 河合 晃、石川厚志、坂田 誠:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(22) <3次元パターン内のメニスカス解析①>、秋季第64回応用物理学会学術講演 会、31p-ZQ-13、講演予稿集、p636(2003).
  • 河合 晃、丹波隆志、石川厚志:高分子集合体間の付着力に基づいたレジストパターンの凝集力解析、第13回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅰ-12、P16、(2003)
  • 河合 晃、坂田 誠、石川厚志:液体の乾燥過程における三次元パターン内でのメニスカス挙動解析(1)<液体表面張力の依存性>、第13回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P-58、P138(2003).
  • 河合 晃、石川厚志:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(27) <個々の高分子集合体のヤング率測定>、春季第51回応用物理学会学術講演会、28a-T-5、講演予稿集、p768(2004).
  • 河合 晃、坂田 誠、石川厚志:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(28) <3次元パターン内のメニスカス解析③>、春季第51回応用物理学会学術講演 会、28a-T-6、講演予稿集、p769(2004).
  • 河合 晃、石川厚志:原子間力顕微鏡(AFM)を用いた固体表面の汚染・洗浄解析(2) <基板上異物の付着力の直接測定>、春季第51回応用物理学会学術講演会、31p-B-1、講演予稿集、p856(2004). ・石川厚志、丹治隆志、河合 晃:高分子集合体の凝集性の硬化処理依存性、第21回フォトポリマーコンファレンス、C-05、(2004)
  • 河合 晃、石川厚志:微細レジストパターンの熱変形解析、第14回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅲ-11、P55、(2004) ・石川厚志、河合 晃:液浸リソグラフィーにおける微小気泡の付着・脱離制御(6)~原子間力顕微鏡(AFM)によるArFレジスト表面でのナノバブルの凝集制御~、春季第52回応用物理学関係連合講演会、31p-YW-18, 講演予稿集、No.2, p841, (2005)
  • 河合 晃、石川厚志:液浸リソグラフィーにおける微小気泡の付着・脱離制御(4)~原子間力顕微鏡(AFM)を用いたナノバブル観察法の基礎~、春季第52回応用物理学関係連合講演会、31p-YW-16, 講演予稿集、No.2, p840, (2005)
  • 新山雄俊、石川厚志、河合 晃:液浸リソグラフィーにおける微小気泡の付着・脱離制御(5)~原子間力顕微鏡(AFM)によるSi上のナノバブルの基礎特性~、春季第52回応用物理学関係連合講演会、31p-YW-17, 講演予稿集、No.2, p841, (2005)
  • 河合 晃、石川厚志、新山雄俊、鈴木健太:原子間力顕微鏡(AFM)による純水中の微小気泡の付着・脱離制御、日本接着学会第43回年次大会、講演要旨集、P16B (2005).
海外での教育研究活動
  • 北京/中国(国際学会)
遠藤 穂高 Hotaka Endo

2005年 修士課程修了

修士論文

微小気泡の移動制御を利用したマイクロシステムの開発

招待講演
  • Hotaka Endo and Akira Kawai, Proceedings of 2004 Beijing International Bonding Technology Symposium (CSB2004), O38-1~5.「Micro bubbles captured by micro defect on flat substrate」
原著論文
  • Akira Kawai, Akihiko Seki and Hotaka Endo, Viscous finger pattern formed in photoresist film during heat treatment, J. Photopolymer Sci. Technol, 17, 103-104 (2004).
  • Hotaka Endo and Akira Kawai, Micro bubbles captured at micro defect on resist film, J. Photopolymer Sci. Technol, 17, 105-106 (2004).
  • Hotaka Endo, Akira Kawai"Adhesion mechanism of micro bubbles on ArF and F2 excimer resists,J. Photopolymer Sci. Technol, 17, (5) 713-714 (2004).
  • Akira Kawai, Hotaka Endo, Tomotaka Ariga"Condensation mechanism of microbubbles depending on DFR pattern design"Microelectronic Engineering, 83, 1167-1169 (2006).
  • Akira Kawai, Hotaka Endo, Daisuke Tanaka, Pinning Effects of Micro Bubbles adhered on Resist Substrate, J. Photopolymer Science. Technol., 21, 753-754 (2008).
国際学会
  • Akira Kawai, Hotaka Endo, Masaki Yamanaka, "Adhesion and Removal Control of Micro Bubbles for Immersion Lithography", Abstract book, p71-72, SanDiego, EIPBN 2004.
  • Hotaka Endo, Akira Kawai, "Micro bubbles captured by micro defect on flat substrate", Proceedings of 2004 Beijing International Bonding Technology Symposium (CSB2004), O38-1~5.
  • Akira Kawai, Hotaka Endo, Akihiro Seki, "Adhesion analysis of adhesive layer to viscous fingering deformation", Proceedings of 2004 Beijing International Bonding Technology Symposium (CSB2004), P07-1~6.
  • Akira Kawai, Hotaka Endo, Tomotaka Ariga,
    "Condensation mechanism of microbubbles depending on DFR pattern design",
    31st International Conference on Micro- and Nano-Engineering 2005 (MNE2005), Vienna, Austria, Abstracts, 3-l_07 (2005).
  • Akira Kawai, Hotaka Endo, Masaki Yamanaka, Atsushi Ishikawa, Kenta Suzuki, "Adhesion and removal of micro bubbles for immersion lithography"SPIE ML6135-65,SPIE 2006, International Symposium on Microlithography, San Jose, California, Proc. SPIE, Microlithography, Advences in Resist Technology and Processing XXⅡ (2006).
  • Natsumi Yagi, *, Tomotaka Ariga, Hotaka Endo, Akira Kawai, "Bubble Trap Analysis for Smooth Fluid Flowing in Micro Channel / Tube Network", 42nd Micro and Nano Engineering (MNE2016), Vienna, Austria, Wed-C2-161 (2016)
国内学会
  • 河合 晃、遠藤穂高:低表面張力液体による気泡除去方法のメカニズム解析、第13回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅳ-18、P79、(2003)
  • 河合 晃、遠藤穂高:液浸リソグラフィーにおける微小気泡の付着・脱離制御(1)~付着・脱離メカニズムの解析~、春季第51回応用物理学関係連合講演会、29a-G-9, 講演予稿集、No.2, p777, (2004)
  • 河合 晃、遠藤穂高:液浸リソグラフィーにおける微小気泡の付着・脱離制御(3)~レジスト表面の異物・欠陥への気泡の付着~、春季第51回応用物理学関係連合講演会、29a-G-11, 講演予稿集、No.2, p777, (2004)
  • 河合 晃、関 明寛、遠藤穂高:熱処理中に生じたレジスト膜内の粘性指状パターン、第21回フォトポリマーコンファレンス、J. Photopolymer Sci. Technol, 17, 103-104 (2004).
  • 遠藤穂高、河合 晃:レジスト膜上の欠陥に付着した微小気泡、第21回フォトポリマーコンファレンス、J. Photopolymer Sci. Technol, 17, 105-106 (2004).
  • 遠藤穂高、河合 晃:高分子膜上での微小気泡の付着・脱離制御、日本接着学会第42回年次大会、P41A、講演要旨集、p83(2004).
  • 遠藤穂高、河合 晃、:高分子膜上に付着する微小気泡、第14回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P-39、P119、(2004)
海外での教育研究活動
  • 北京/中国(国際学会)
新山 雄俊 Takayoshi Niiyama

2005年 修士課程修了

修士論文

ナノスケール固体における非接触変形のメカニズム解析および相互作用斥力による変形制御

受賞
  • The Best Paper Award of the year 2005 (Photopolymer Science and Technology award)
  • 第1回 学長表彰(H16年度)
  • 優秀発表賞(第14回電気学会東京支部新潟支所研究発表会)
  • ベストポスター賞(第43回日本接着学会年会)
原著論文
  • Akira Kawai, Takahiro Moriuchi, Takayoshi Niiyama, Takahiro Kishioka, Daisuke Maruyama, Yasushi Sakaida, Takashi Matsumoto"Adhesion improvement of ArF resist pattern depending on BARC material", Microelectronic Engineering, 83, 659-662 (2006).
  • Takayoshi Niiyama, Akira Kawai"Micro wetting system by controlling pinning and capollary forces, Microelectronic Engineering, 83, 1280-1283 (2006).
  • Takayoshi Niiyama and Akira Kawai"Formation factors of watermark for immersion lithography"Jpn. J. Appl. Phys. 45, 5383-5387 (2006).
  • Takayoshi Niiyama and Akira Kawai,"Interaction Analysis of DI-water/Air/ArF Resist SystemUsing Atomic Force Microscope、Journal of Photopolymer Science and Technology,18, (3) 373-380 (2005)
  • Takayoshi Niiyama and Akira Kawai, "Interaction Force Analysis of Resist Film Surface in Water Vapor", Journal of Photopolymer Science and Technology, 17, 453-456, (2004)
  • Takayoshi Niiyama, Yuji Sawanaga and Akira Kawai,"Determination of Electrified Area formed by AFM Lithography",Journal of Photopolymer Science and Technology, 16, 661-662, (2003) Communication
  • Akira Kawai, Masahito Hirano and Takayoshi Niiyama, "Analysis for Drying Behavior of Rinse Water Depended on Resist Pattern Arrangement", Journal of Photopolymer Science and Technology, 17, 461-464, (2004)
国際学会
  • Takayoshi Niiyama and Akira Kawai, "Interaction Force Analysis of Resist Film Surface in Water Vapor", The 21st Conference of Photopolymer Science and Technology, The International Symposium 2004 Materials & Processes for Advanced Microlithography and Nanotechnology,University Convention Hall, Chiba University, Chiba, Japan, June 24, (2004)
  • Akira Kawai, Masahito Hirano, Takayoshi Niiyama, "Analysis of drying behavior of rinse water depended on resist pattern arrangement", International symposium on materials & processes for advanced microlithography and nanotechnology 2004, A-24, Chiba, Japan (2004).
  • Akira Kawai, Atsushi Ishikawa, Takayoshi Niiyama, Masahiko Harumoto, Osamu Tamada, Masakazu Sanada, "Adhesion and removal behavior of nanoscale bubble on resist film surface for immersion lithography", SPIE 2005, International Symposium on Microlithography, San Jose, California, Proc. SPIE, Microlithography, Advences in Resist Technology and Processing XXⅡ (2005).
  • Takayoshi Niiyama, Akira Kawai, "Interaction analysis of DI-water / Air / ArF resist system using atomic force microscope", International symposium on materials & processes for advanced microlithography and nanotechnology 2005, Chiba, Japan (2005).
  • Akira Kawai, Takahiro Moriuchi, Takayoshi Niiyama, Takahiro Kishioka, Daisuke Maruyama, Yasushi Sakaida, Takashi Matsumoto, "Adhesion improvement of ArF resist pattern depending on BARC material", 31st International Conference on Micro- and Nano-Engineering 2005 (MNE2005), Vienna, Austria, Abstracts, 3-a_04 (2005).
  • Takayoshi Niiyama, Akira Kawai, "Micro wetting system by controlling pinning and capollary forces", 31st International Conference on Micro- and Nano-Engineering 2005 (MNE2005), Vienna, Austria, Abstracts, 5C_03 (2005).
  • Takayoshi Niiyama, Akira Kawai, "Formation factors of watermark for immersion lithography", 2005 International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2005), Tokyo, Japan, Digest of papers, 26A-3-4, P32 (2005).
  • Akira Kawai, Takayoshi Niiyama, Takahiro Moriuchi, "Non-contacting deformation of isolated resist pattern due to interaction force analyzed by atomic force microscope", 2005 International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2005),Tokyo, Japan, Digest of papers, 27P-7-10, P118 (2005).
国内学会
  • 河合晃、澤永裕司、新山雄俊:電荷蓄積型メモリの検出感度と高集積化、第13回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅳ-17、P78、(2003)
  • 河合晃、新山雄俊:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(25) ~分子間力によるレジストパターン変形①~、春季第51回応用物理学会学術講演会、28a-T-3、講演予稿集、p768(2004).
  • 河合晃、新山雄俊:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(26) ~分子間力によるレジストパターン変形②~、春季第51回応用物理学会学術講演会、28a-T-4、講演予稿集、p768(2004).
  • 河合晃、新山雄俊:AFMを用いた帯電によるレジストパターンの変形・剥離解析、春季第51回応用物理学会学術講演会、29a-H-2、講演予稿集、p1061(2004).
  • 新山雄俊、河合晃:原子間力顕微鏡(AFM)を用いた高分子膜表面に働く相互作用引力の実測と解析、日本接着学会第42回年次大会、P42B、講演要旨集、p83(2003).
  • 新山雄俊、河合晃:大気中動作マイクロマシンにおける吸着水の影響、第14回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅲ-5、P49(2004)
  • 河合 晃、丹治隆志、新山雄俊:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(29)~Tip indentation法によるレジストパターンの表面硬化層解析~、春季第52回応用物理学関係連合講演会、31p-YW-10, 講演予稿集、No.2, p838, (2005)
  • 河合 晃、平野正人、新山雄俊:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(30)~レジストパターン配列に起因したリンス液の乾燥挙動~、春季第52回応用物理学関係連合講演会、31p-YW-9, 講演予稿集、No.2, p838, (2005)
  • 新山雄俊、石川厚志、河合 晃:液浸リソグラフィーにおける微小気泡の付着・脱離制御(5)~原子間力顕微鏡(AFM)によるSi上のナノバブルの基礎特性~、春季第52回応用物理学関係連合講演会、31p-YW-17, 講演予稿集、No.2, p841, (2005)
  • 河合 晃、丹治隆志、新山雄俊、鈴木健太:微細探針のインデンテーション法による高分子パターンの表面硬化層の解析、日本接着学会第43回年次大会、講演要旨集、P17A (2005).
  • 河合 晃、石川厚志、新山雄俊、鈴木健太:原子間力顕微鏡(AFM)による純水中の微小気泡の付着・脱離制御、日本接着学会第43回年次大会、講演要旨集、P16B (2005).
海外での教育研究活動
  • ウィーン/オーストリア(国際学会)
山中 雅貴 Masaki Yamanaka

2005年 修士課程修了

修士論文

微小液体メニスカス形状制御を利用した表示デバイスの開発

原著論文
  • Masaki Yamanaka, Akira Kawai"Analysis of micro meniscus shape by light scattering, J. Photopolymer Science and Technology, 20, 781-782 (2007).
  • Masaki Yamanaka, Akira Okada and Akira Kawai, "Pinning effect of micro drops on geometrical complex substrates composed with different surface energy materials",J. Vac. Sci. & Technol. B22(6), Nov/Dec 3525-3527 (2004).
国際学会
  • Akira Kawai, Hotaka Endo, Masaki Yamanaka, "Adhesion and Removal Control of Micro Bubbles for Immersion Lithography", Abstract book, p71-72, SanDiego, EIPBN 2004.
  • Masaki Yamanaka, Akira Okada, Akira Kawai, "Pinning Effect of Micro Liquid Drop on Geometrical Complex Substrate Composed with Different Surface Energy", Abstract book, p218-219, SanDiego, EIPBN 2004.
  • Akira Kawai, Hotaka Endo, Masaki Yamanaka, Atsushi Ishikawa, Kenta Suzuki"Adhesion and removal of micro bubbles for immersion lithography"SPIE ML6135-65,SPIE 2006, International Symposium on Microlithography, San Jose, California, Proc. SPIE, Microlithography, Advences in Resist Technology and Processing XXⅡ (2006).
国内学会
  • 河合 晃、金子悦久、山中雅貴:光学シミュレーションに基づく高アスペクト比のパターン形成、第13回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、Ⅳ-19、予稿集、P80、(2003)
  • 河合 晃、山中雅貴:液浸リソグラフィーにおける微小気泡の付着・脱離制御(2)~石英レンズ表面の有機汚染の影響~、春季第51回応用物理学関係連合講演会、29a-G-10, 講演予稿集、No.2, p777, (2004)
  • 山中雅貴、河合 晃、:石英ガラス上における微小気泡の付着・脱離特性解析、第14回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、Ⅲ-12、予稿集、P56、(2004).
  • 田中大祐、山中雅貴、河合 晃、試作した縮小投影露光装置を用いた3μmルールリソグラフィー技術の開発、第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P415 (2007)
海外での教育研究活動
  • サンディエゴ/米国(国際学会)
中島 賢治 Kenji Nakajima

2005年 学部卒業

卒業論文

基板上の微小液滴形状の動的特性解析

坂田 誠 Makoto Sakata

2004年 修士課程修了

修士論文

三次元構造内における液体メニスカス挙動解析

受賞
  • The Best Paper Award of the year 2005 (Photopolymer Science and Technology award)
原著論文
  • Atsushi Ishikawa, Makoto Sakata and Akira Kawai, "Meniscus analysis in microgap during liquid drying process"J. Photopolymer Sci. Technol, 17, 457-460 (2004).
国際学会
  • Atsushi Ishikawa, Makoto Sakata, Akira Kawai, "Meniscus analysis in microgap during liquid drying process", International symposium on materials & processes for advanced giga-bit-scale lithography 2004, A-23, Chiba, Japan (2004).
国内学会
  • 河合 晃、森池教夫、坂田 誠:原子間力顕微鏡微細探針を用いた直径84~364nmドットレジストパターン付着・凝集性解析、第12回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、Ⅳ-16、予稿集、p81(2002).
  • 河合 晃、坂田 誠、石川厚志:液体の乾燥過程における三次元パターン内でのメニスカス挙動解析(1)<液体表面張力の依存性>、第13回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P-58、P138(2003).
  • 坂田 誠、河合 晃:液体の乾燥過程における三次元パターン内でのメニスカス挙動解析(2)<液体表面張力の依存性>、第13回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P-59、P139(2003).
  • 河合 晃、石川厚志、坂田 誠:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(22) <3次元パターン内のメニスカス解析①>、秋季第64回応用物理学会学術講演会、31p-ZQ-13、講演予稿集、p636(2003).
  • 坂田 誠、河合 晃:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(23)<3次元パターン内のメニスカス解析②>、秋季第64回応用物理学会学術講演会、31p-ZQ-14、講演予稿集、p636(2003).
根本 忠哉 Tadachika Nemoto

2004年 修士課程修了

修士論文

荷重点制御型シェアモード法を用いたはんだバンプの接合性解析

国内学会
  • 河合 晃、小泉延恵、根本忠哉:Cu/Al多層膜構造の破壊強度に及ぼすAl自然酸化膜の影響、第12回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、P-15、予稿集、p98(2002).
  • 根本忠哉、河合 晃、大沢義征:Sn-Pb系及びPbフリーはんだバンプの剥離過程解析、第13回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅰ-13、P17、(2003)
  • 根本忠哉、河合 晃、大澤義征:断面SEM法によるはんだバンプの剥離過程解析、日本接着学会第41回年次大会、P23A、講演要旨集、p45(2003).
  • 河合 晃、丹治隆志、根本忠哉:原子間力顕微鏡(AFM)による分子間力解析に基づいたエポキシ系接着剤の接着性解析、日本接着学会第41回年次大会、P22B、講演要旨集、p43(2003).
平野 正人 Masahito Hirano

2004年 修士課程修了

修士論文

ナノスケールにおける純水とレジストパターンとのメニスカスが及ぼす相互作用解析

受賞
  • 優秀論文発表賞 (電気学会、2003年東京支部新潟支所研究発表会)「液体の乾燥速度と微細形状の関係」
  • The Best Paper Award of the year 2005 (Photopolymer Science and Technology award)
原著論文
  • Akira Kawai, Masahito Hirano"Nano-wetting of DI-water analyzed by AFM"J. Photopolymer Science and Technology, 20, 813-814 (2007)
  • Akira Kawai, Masahito Hirano and Takayoshi Niiyama, "Analysis of drying behavior of rinse water depended on resist pattern arrangement", J. Photopolymer Sci. Technol, 17, 461-464 (2004).
  • Masahito Hirano, Akira Kawai, "Adhesion of AFM tip to resist surface due to Laplace force" ,J. Photopolymer Sci. Technol, 16, 663-664 (2003).
  • Akira Kawai, Masahito Hirano and Takashi Yamaji, "Nano-scale Deformation of Resist Film Surface by Humidifying and Drying Processes", J. Photopolymer Sci. Technol., 21, 737-738 (2008).
国際学会
  • Akira Kawai, Masahito Hirano , Takayoshi Niiyama, "Analysis of drying behavior of rinse water depended on resist pattern arrangement", International symposium on materials & processes for advanced giga-bit-scale lithography 2004, A-24, Chiba, Japan (2004).
国内学会
  • 河合 晃、井上大輔、平野正人:原子間力顕微鏡による高分子集合体と基板間のファン・デル・ワールス相互作用解析、第12回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、Ⅳ-17、予稿集、p82(2002).
  • 平野正人、河合 晃:液体の乾燥速度と微細形状の関係、第13回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅳ―16、P77、(2003)
  • 河合 晃、丹波隆志、平野正人:レジストパターン中の10~50nmの空孔(vacancy)検出法、第13回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P-11、P91、P(2003).
  • 河合 晃、丹治隆志、平野正人:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(21)<レジスト膜中の高分子集合体のVacancy>、秋季第64回応用物理学会学術講演会、31p-ZQ-12、講演予稿集、p635(2003).
  • 河合 晃、平野正人:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(24)<ナノメニスカスのAFM観察>、秋季第64回応用物理学会学術講演会、31p-ZQ-15、講演予稿集、p636(2003).
  • 平野正人、河合 晃:原子間力顕微鏡(AFM)によるラプラス力測定に基づいたナノ構造の破壊強度に関する考察、日本接着学会第41回年次大会、P21A、講演要旨集、p41(2003).
  • 河合 晃、丹治隆志、平野正人:原子間力顕微鏡(AFM)による高分子集合体のナノスケールでの凝集性解析、日本接着学会第41回年次大会、P20B、講演要旨集、p39(2003).
  • 河合 晃、平野正人、新山雄俊:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(30)~レジストパターン配列に起因したリンス液の乾燥挙動~、春季第52回応用物理学関係連合講演会、31p-YW-9, 講演予稿集、No.2, p838, (2005)
シャハリール アカマル ビン ハリール Sahril Akmal Bin Halil

2004年 学部卒業

卒業論文

ポラリスコープを用いた固体材料の応力解析

ムハマド ラムリー ビン オトマン Mohd. Ramli Bin Othman

2004年 学部卒業

卒業論文

気液混合体の誘電特性解析

チュドリー エムディ ズバエル アクタル Choudhury Md. Zubair Akhter

2004年 学部卒業

卒業論文

AFMを用いた微小固体の機械的特性解析

丹治 隆志 Takashi Tanji

2003年 修士課程修了

修士論文

原子力間顕微鏡(AFM)を用いた数10nmサイズの高分子集合体の凝集性解析

受賞
  • 講演奨励賞 (応用物理学会、2003年春季連合講演会)「AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(19)」
  • ベストポスター賞 (日本接着学会)(平成14年)「原子間力顕微鏡(AFM)を用いたサブミクロンサイズのラインレジストパターン表面のインデンテーション解析」
  • ベストポスター賞(第43回日本接着学会年会)2005年
原著論文
  • Atsushi Ishikawa, Takashi Tanji and Akira Kawai,“Cohesion property of polymer aggregate depending on hardening treatment”,J. Photopolymer Sci. Technol, 17, 99-102 (2004).
  • Atsushi Ishikawa, Takashi Tanji, Akira Kawai"Determination of Young's modulus of plymer aggregate based on Hertz theory"J. Photopolymer Sci. Technol, 17, (2004). in press.
国内学会
  • 河合 晃、森池教夫、丹治隆志:AFM微細探針によるレジストパターンの付着力解析(14)<ArF/SORレジストパターンのヤング率及び付着性>、秋季第62回応用物理学会学術講演会、12a-E-30, 講演予稿集、No.2, p540 (2001).
  • 河合 晃, 森池教夫、丹治隆志:極微小サイズにおける有機固体のヤング率の決定、第11回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、IV-3、予稿集、p83 (2001).
  • 河合 晃、森池教夫、丹治隆志:AFM微細探針によるレジストパターンの付着力解析(14)<ArF/SORレジストパターンのヤング率及び付着性>、秋季第62回応用物理学会学術講演会、12a-E-30, 講演予稿集、No.2, p540 (2001).
  • 河合 晃, 森池教夫、丹治隆志:極微小サイズにおける有機固体のヤング率の決定、第11回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、IV-3、予稿集、p83 (2001).
  • 丹治隆志、河合 晃:原子間力顕微鏡(AFM)を用いたサブミクロンサイズのラインレジストパターン表面のインデンテイション解析、日本接着学会第40回年次大会、P24B,講演要旨集、p45(2002).
  • 丹治隆志、河合 晃:原子間力顕微鏡(AFM)の力曲線に基づく固体表面の汚染・洗浄解析、秋季第63回応用物理学会学術講演会、26p-E-8、講演予稿集、p704(2002).
  • 丹治隆志、河合 晃:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(18)<パターン内の硬さ分布解析>、秋季第63回応用物理学会学術講演会、26a-N-8、講演予稿集、p629(2002).
  • 河合 晃、森池教夫、丹治隆志:原子間力顕微鏡(AFM)を用いた直径84~364nmの微小円柱型レジストパターンの弾性解析、日本接着学会第40回年次大会、P23A、講演要旨集、p43(2002).
  • 丹治隆志、河合 晃:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(19)<高分子集合体の細分化>、第50回応用物理学関係連合講演会、29p-YK-7、講演予稿集、p775(2003).
  • 丹治隆志、河合 晃:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(20)<高分子集合体のライン状への再配列>、第50回応用物理学関係連合講演会、29p-YK-8、講演予稿集、p775(2003).
  • 河合 晃、丹波隆志、石川厚志:高分子集合体間の付着力に基づいたレジストパターンの凝集力解析、第13回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、Ⅰ-12、P16、(2003)
  • 河合 晃、丹波隆志、平野正人:レジストパターン中の10~50nmの空孔(vacancy)検出法、第13回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集、P-11、P91、P(2003).
  • 河合 晃、丹治隆志、平野正人:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(21)<レジスト膜中の高分子集合体のVacancy>、秋季第64回応用物理学会学術講演会、31p-ZQ-12、講演予稿集、p635(2003).
  • 河合 晃、丹治隆志、根本忠哉:原子間力顕微鏡(AFM)による分子間力解析に基づいたエポキシ系接着剤の接着性解析、日本接着学会第41回年次大会、P22B、講演要旨集、p43(2003).
  • 河合 晃、丹治隆志、平野正人:原子間力顕微鏡(AFM)による高分子集合体のナノスケールでの凝集性解析、日本接着学会第41回年次大会、P20B、講演要旨集、p39(2003).
  • 河合 晃、丹治隆志、新山雄俊、鈴木健太:微細探針のインデンテーション法による高分子パターンの表面硬化層の解析、日本接着学会第43回年次大会、講演要旨集、P17A (2005).
  • 河合 晃、丹治隆志、新山雄俊:AFM微細探針によるレジストパターンの付着・凝集性解析(29)~Tip indentation法によるレジストパターンの表面硬化層解析~、春季第52回応用物理学関係連合講演会、31p-YW-10, 講演予稿集、No.2, p838, (2005)
井上 大輔 Daisuke Inoue

2002年 修士課程修了

修士論文

原子力間顕微鏡(AFM)を用いた微細レジストパターンの倒壊挙動解析

原著論文
  • Akira Kawai, Daisuke Inoue,“Van der Waals Interaction between Polymer Aggregates and Substrate Surface Analyzed by Atomic Force Microscope (AFM)”,J. Photopolymer & Science Technology, 15, 127-132 (2002).
  • Akira Kawai, Daisuke Inoue,“Peeling Property of Resist Pattern in Water Analyzed by Atomic Force Microscope”,J. Photopolymer & Science Technology, 15, 757-758 (2002).
  • Akira Kawai, Daisuke Inoue,“Effect of Thermal Stress on Peel Property of Line Resist Pattern Analyzed by Atomic Force Microscope (AFM)”,J. Adhes. Soc. Technol. 39, 107-110 (2003).
  • Daisuke Inoue, Akira Kawai,“Peeling Analysis of Resist Pattern of 170nm Width Due To Crack Formation by using Atomic Force Microscope Tip”,Surface and Coating Technology, 169-170, pp.311-315 (2003).
  • Akira Kawai, Daisuke Inoue“Van der Waals interaction between Si substrate and micro tip apex treated with hexamethyldisilazane (HMDS)”J. Adhes. Soc. Technol. 39, 255-258 (2003).
国際学会
  • Daisuke Inoue, Akira Kawai, "Peeling Analysis of Resist Pattern of 170nm Width Due To Crack Formation by using Atomic Force Microscope Tip", Frontiers of surface engineering 2001 (FSE2001), Nagoya, Japan, Abstracts, A2-15, p121 (2001).
  • Akira Kawai, Daisuke Inoue, "Van der Waals Interaction between Polymer Aggregates and Substrate Surface Analyzed by Atomic Force Microscope (AFM)", International symposium on materials & processes for advanced giga-bit-scale lithography 2002, Chiba, Japan (2002).
国内学会
  • 井上大輔、河合 晃:線幅170nmのラインレジストパターンにおける破壊挙動解析、第10回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、IV-18、予稿集、p88 (2000).
  • 井上大輔、河合 晃:AFM微細探針によるレジストパターンの付着力解析(12)<ラインパターンの破壊過程のクラックモデル解析>、春季第48回応用物理関係連合講演会、28p-ZD-3, 講演予稿集、No.2, p731 (2001).
  • 井上大輔、金子悦久、河合 晃:原子間力顕微鏡(AFM)を用いた170nmのレジストパターン破壊におけるクラックモデル解析、日本接着学会第39回年次大会、P40B, 講演要旨集, p79-80, (2001).
  • 井上大輔、阿部貴人、森池教夫、河合 晃:原子間力顕微鏡(AFM)を用いた疎水化Si基板上における微細レジストパターンの付着力解析、日本接着学会第39回年次大会、P41A, 講演要旨集, p81-82, (2001).
  • 井上大輔、河合 晃:AFM微細探針によるレジストパターンの付着力解析(13)<基板界面内での高分子集合体モデル>、秋季第62回応用物理学会学術講演会、12a-E-29, 講演予稿集、No.2, p540 (2001).
  • 井上大輔、河合 晃:マイクロデバイスにおける微小固体の強度設計、第11回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、IV-4、予稿集、p84 (2001).
  • 河合 晃、井上大輔、平野正人:原子間力顕微鏡による高分子集合体と基板間のファン・デル・ワールス相互作用解析、第12回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、Ⅳ-17、予稿集、p82(2002).
  • 井上大輔、河合 晃:AFM微細探針によるレジストパターンの付着力解析(15)<純水中でのレジスト凝集性の低下>、春季第49回応用物理学関係連合講演会、28a-YR-20、講演予稿集、p711(2002).
岩田 敏幸 Toshiyuki Iwata

2002年 修士課程修了

修士論文

FT-IR-ATR法を用いたSi基板表面相の不均一分布の解析

国内学会
  • 岩田敏幸、河合 晃:ATR測定による食品包装材の剥離後のSi表面解析、平成13年度応用物理学会北陸・信越支部学術講演会、講演予稿集、2E-3、p112, (2001).
  • 河合 晃、岩田敏幸、金川栄三:カンチレバー方式による高感度センサーの開発、日本接着学会第39回年次大会、P51A, 講演要旨集, p101-102, (2001).
小井土 順一 Jun-ichi Koido

2002年 修士課程修了

修士論文

薄膜コート法による多層膜の欠陥検出および応力分布解析

国際学会
  • Jun-ichi Koido, Akira Kawai, "Stress analysis due to micro wrincles formed in surface layer of Cu-Al maltilayer system", Frontiers of surface engineering 2001 (FSE2001), Nagoya, Japan, Abstracts, A2-17, p123 (2001).
  • Jun-ichi Koido, Akira Kawai, "Micro wrincles formed in multi layer structure due to stress distribution", Proceedings of 2004 Beijing International Bonding Technology Symposium (CSB2004), P08-1~6.
国内学会
  • 小井土順一、河合 晃:Cu/Al系多層膜表面に発生した「しわ」による面内応力分布解析法、春季第48回応用物理関係連合講演会、31a-ZM-5, 講演予稿集、No.2, p678 (2001).
  • 河合 晃、小井土順一、関 明寛:2枚の基板で挟まれた高分子膜に生じるViscous Finger変形と接着性の解析、日本接着学会第39回年次大会、P39A, 講演要旨集, p77-78, (2001).
  • 小井土順一、河合 晃:Cu/Al多層膜表面に発生した"しわ"による応力分布解析法、日本接着学会第39回年次大会、P38B, 講演要旨集, p75-76, (2001).
  • 小井土順一、河合 晃:薄膜コート法による固体表面歪の簡易検出法、第11回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、IV-2、予稿集、p82 (2001).
国安 浩平 Kohei Kuniyasu

2002年 学部卒業

卒業論文

はんだバンプの付着特性における剥離角度と基板表面粗さの最適化

福原 信也 Shinya Fukuhara

2002年 学部卒業

卒業論文

ATR-Auプラズモン共鳴を用いた表面特性解析

阿部 貴人 Takato Abe

2001年 修士課程修了

修士論文

原子力間顕微鏡を用いた高分子集合体の破壊挙動解析及び付着力解析

原著論文
  • Akira Kawai, Takato Abe, Direct Measurement of Resist Pattern Adhesion on the Surface with Silane-coupling Treatment by Atomic Force Microscope (AFM), J. Photopolymer Science and Technology, 14, 513-518 (2001).
  • 阿部貴人、河合 晃、原子間力顕微鏡(AFM)を用いた線幅60nmのラインレジストパターンの弾性解析、日本接着学会誌、37, 353-357 (2001).
  • Akira Kawai,Takato Abe,“Analysis of Pattern Collapse of Electron Beam Resist from 60 to 152 nm Width with Atomic Force Microscope Tip”,J. Adhesion Soc. Japan, 38 16-19 (2002).
国際学会
  • Akira Kawai, Takato Abe, Direct Measurement of Resist Pattern Adhesion on the Surface with Silane-coupling Treatment by Atomic Force Microscope (AFM), International symposium on materials & processes for advanced giga-bit-scale lithography 2001, Chiba, Japan, J. Photopolymer Science and Technology, 14, 513-518 (2001).
国内学会
  • 金子 悦久、阿部 貴人、河合 晃:原子力間顕微鏡(AFM)の微細探針を用いた微細パターンの破壊解析、第9回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集Ⅰ-10、P55 (1999)
  • 河合 晃、阿部 貴人:AFM微細探針によるレジストパターンの付着力解析(8)<線幅60nmのラインパターンの剥離解析>、春季第47回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集30a-A-6、P713 (2000)
  • 森池 教夫、阿部 貴人、河合 晃:原子間力顕微鏡を用いたマニピュレーション技術による微細レジストパターン形成、第38回日本接着学会年次大会、予稿集P-72-B、P143 (2000)
  • 河合 晃、阿部 貴人:原子力間顕微鏡(AFM)を用いた線幅100nm以下のラインレジストパターンの付着力解析、第38回日本接着学会年次大会、予稿集P-67-A、P133 (2000)
  • 阿部貴人、河合 晃:AFM微細探針によるレジストパターンの付着力解析(11)<疎水化Si基板上の微細パターンの付着力解析>、春季第48回応用物理関係連合講演会、28p-ZD-4, 講演予稿集、No.2, p731 (2001).
  • 阿部貴人、河合 晃:原子間力顕微鏡(AFM)を用いた疎水化Si基板上の微細パターンの破壊解析、第10回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、IV-19、予稿集、p89 (2000).
  • 井上大輔、阿部貴人、森池教夫、河合 晃:原子間力顕微鏡(AFM)を用いた疎水化Si基板上における微細レジストパターンの付着力解析、日本接着学会第39回年次大会、P41A, 講演要旨集, p81-82, (2001).
  • 河合 晃、阿部貴人:AFM微細探針によるレジストパターンの付着力解析(17)<高分子集合体のマニピュレーション>、春季第49回応用物理学関係連合講演会、28a-YR-22、講演予稿集、p712(2002).
磯部 亮 Makoto Isobe

2001年 修士課程修了

修士論文

HMDCプラズマ重合法によるサイドウォール型リソグラフィー技術の開発

原著論文
  • 磯部 亮、河合 晃、微細周期パターン上へのプラズマ重合膜の堆積特性、日本接着学会誌、37, 433-436 (2001).
国内学会
  • 河合 晃、磯部 亮:HMDSを用いたプラズマ重合法によるナノメータサイズのギャップ作製技術、第38回日本接着学会年次大会、予稿集P-62-B、P123 (2000)
  • 河合 晃、磯部 亮、寺本 和良、原賀 康介:交流インピーダンス法による接着層の特性解析、第38回日本接着学会年次大会、予稿集P-11-A、P21 (2000)
  • 磯部 亮、河合 晃:HMDSソースを用いたプラズマ重合法によるナノメータギャップの作製、第10回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、p-15、予稿集、p107 (2000).
原 朋敬 Tomonori Hara

2001年 修士課程修了

修士論文

インピーダンス法を用いたエポキシ接着層の破壊挙動解析

受賞
  • 優秀発表賞 (電気学会東京支部新潟支所)(平成12年) 「Al/Cu/レジスト多層膜の破壊特性解析」
原著論文
  • 原 朋敬、小泉延恵、河合 晃、Glass/レジスト/Cu/Al/Glass多層構造の破壊特性解析、日本接着学会誌、37, 303-308 (2001).
国内学会
  • 河合 晃、原 朋敬:Al/Cu/レジスト多層膜の破壊特性解析、電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集Ⅰ-11、P57 (1999)
  • 原 朋敬、河合 晃:溶剤蒸発に伴うエポキシ接着層内の微小空隙形成、第10回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、I-14、予稿集、p18 (2000).
小林 繋紀 Shigeki Kobayashi

2001年 学部卒業

卒業論文

MOS構造のC-V特性測定による誘電膜の特性評価

本間 隆幸 Takayuki Honma

2001年 学部卒業

卒業論文

半田バンプの縮小化におけるシェアモード剥離法の評価

森池 教夫 Norio Moriike

2000年 修士課程修了

修士論文

走査型プローブ顕微鏡を用いた微細レジストパターンのマニピュレーション技術の開発

原著論文
  • Akira Kawai, Norio Moriike"Visualization of stress distribution in resist film by surface plasma treatment, J. Photopolymer Science and Technology, 20, 783-785 (2007).
  • 森池教夫、河合 晃、原子間力顕微鏡を用いた一括破壊試験法による有機ドットパターンの付着挙動解析、日本接着学会誌、36, 295-301 (2000).
  • 森池教夫、河合 晃、原子間力顕微鏡を用いた微細レジストドットパターンの疲労解析、日本接着学会誌, 36, 404-407 (2000).
  • Akira Kawai, Norio Moriike, Analysis of Pattern Collapse of ArF Excimer Laser Resist by Direct Peeling Method with Atomic Force Microscope Tip, Microelectronic Engineering, vol.57-58, pp683-692 (2001)
  • Akira Kawai, Norio Moriike, Adhesion and Cohesion Analysis of ArF/SOR Resist Patterns with Microtip of Atomic Force Microscope (AFM), J. Photopolymer Science and Technology, 14, 507-512 (2001).
  • Akira Kawai and Norio Moriike, Resist Hardening by Electron Beam Irradiation Analyzed by Atomic Force Microscope, J. Photopolymer Science and Technology, 14, 751-752 (2001).
国際学会
  • Akira Kawai , Norio Moriike, "Analysis of pattern collpase of ArF excimer laser resist by direct peeling method with atomic force microscopy", International conference of Micro- and Nano-Engineering 2000, (MNE2000), Jena, Germany (2000). Extended abstract, In-6P, (2000).
  • Akira Kawai, Norio Moriike, "Adhesion and Cohesion Analysis of ArF/SOR Resist Patterns with Microtip of Atomic Force Microscope (AFM)", International symposium on materials & processes for advanced giga-bit-scale lithography 2001, Chiba, Japan, J. Photopolymer Science and Technology, 14, 507-512 (2001).
国内学会
  • 森池 教夫、河合 晃:AFM微細探針によるレジストパターンの付着力解析(7)<ドットパターン付着力の定量解析法>、秋季第60回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集1p-H-4、P581 (1999)
  • 金子 悦久、森池 教夫、河合 晃:AFM微細探針によるレジストパターンの破壊メカニズムの解析、電子情報通信学会技術研究報告、予稿集CPM99-98、P69 (1999)
  • 森池 教夫、河合 晃:AFM微細探針によるKrFエキシマレーザー用化学増幅型レジストの付着力解析法、電子情報通信学会技術研究報告、予稿集CPM99-97、P63 (1999)
  • 森池 教夫、河合 晃:AFM微細探針を用いたマニピュレーション法によるレジストパターンの形成、春季第47回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集28p-F-7、P693  (2000)
  • 森池 教夫、阿部 貴人、河合 晃:原子間力顕微鏡を用いたマニピュレーション技術による微細レジストパターン形成、第38回日本接着学会年次大会、予稿集P-72-B、P143 (2000)
  • 河合 晃、森池 教夫:AFM微細探針によるレジストパターンの付着挙動解析(10)~ArFレジストパターンの破壊特性~、秋季第61回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集4a-X-6、P594 (2000)
  • 井上大輔、阿部貴人、森池教夫、河合 晃:原子間力顕微鏡(AFM)を用いた疎水化Si基板上における微細レジストパターンの付着力解析、日本接着学会第39回年次大会、P41A, 講演要旨集, p81-82, (2001).
  • 河合 晃、森池教夫、丹治隆志:AFM微細探針によるレジストパターンの付着力解析(14)<ArF/SORレジストパターンのヤング率及び付着性>、秋季第62回応用物理学会学術講演会、12a-E-30, 講演予稿集、No.2, p540 (2001).
  • 河合 晃, 森池教夫、丹治隆志:極微小サイズにおける有機固体のヤング率の決定、第11回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、IV-3、予稿集、p83 (2001).
  • 河合 晃、森池教夫、坂田 誠:原子間力顕微鏡微細探針を用いた直径84~364nmドットレジストパターン付着・凝集性解析、第12回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、Ⅳ-16、予稿集、p81(2002).
  • 河合 晃、森池教夫、丹治隆志:原子間力顕微鏡(AFM)を用いた直径84~364nmの微小円柱型レジストパターンの弾性解析、日本接着学会第40回年次大会、P23A、講演要旨集、p43(2002).
澤永 裕司 Yuji Sawanaga

2000年 修士課程修了

修士論文

原子力間顕微鏡を用いた局所帯電法による微粒子群(粒径100nm以下)の凝集力制御

原著論文
  • Akira Kawai, Yuji Sawanaga, "Condensation control of micro particles by charge deposition method", J. Photopolymer Sci. Technol, 16, 669-670 (2003).
  • Takayoshi Niiyama, Yuji Sawanaga, Akira Kawai, "Determination of electrified area formed by AFM lithography", J. Photopolymer Sci. Technol, 16, 661-662 (2003).
国際学会
  • Akira Kawai, Yuji Sawanaga, "Coulomb Force on Solid Surface Analyzed by Local Electrification Method with Micro Tip, Frontiers of surface engineering 2001 (FSE2001)", Nagoya, Japan, Abstracts, D3-18, p266 (2001).
国内学会
  • 堀口 博司、澤永 裕司、河合 晃:AFM微細探針によるポリスチレンテラックス(PSL)微粒子間の相互作用力解析、電子情報通信学会技術研究報告、予稿集CPM99-99、P75  (1999)
  • 澤永 裕司、河合 晃:原子間力顕微鏡の微細探針を用いた誘電体薄膜への局所帯電、第9回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集Ⅰ-9、P53 (1999)
  • 澤永 裕司、河合 晃:AFM微細探針によるPSL微粒子群の凝集性解析、春季第47回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集28a-T-5、P180 (2000)
  • 河合 晃、澤永裕司:原子間力顕微鏡を用いた局所帯電法による微粒子群の凝集性の制御、日本接着学会第39回年次大会、T01, 講演要旨集, p145-148, (2001).
平野 克 Mamoru Hirano

2000年 学部卒業

卒業論文

走査型近接場光顕微鏡(SNOM)の作製

金子 悦久 Yoshihisa Kaneko

1999年 修士課程修了

修士論文

原子力間顕微鏡を用いたKrF対応化学増幅型フォトレジストパターンの機械的物性解析

原著論文
  • Akira Kawai, Yoshihisa Kaneko, Analysis of Resist Pattern Collapse by Direct Peeling Method with Atomic Force Microscope Tip, Jpn. J. Appl. Phys., 39, 1426-1429 (2000).
  • Akira Kawai and Yoshihisa Kaneko, Estimation of Young's Modulus of Resist Pattern by using Atomic Force Microscope, J. Photopolymer Science and Technology, 14, 731-734 (2001).
  • Akira Kawai and Yoshihisa Kaneko, Fatigue Property of Resist Micro Pattern Analyzed by Atomic Force Microscope Tip, J. Photopolymer Science and Technology,14, 701-702 (2001).(2003).
国際学会
  • Akira Kawai and Yoshihisa Kaneko, Analysis of resist pattern collpase by direct peeling method with AFM tip, Microprocesses and Nanotechnology '99, 1999 International Microprocesses and Nanotechnology conference (MNC 99), Yokohama, Japan (1999). Advanec program, 8A-8-4, p192-193 (1999).
国内学会
  • 河合 晃、金子 悦久、川上 喜章:原子力間顕微鏡(AFM)微細探針を用いたレジストマイクロパターンの直接剥離(2)、第36回日本接着学会年次大会、予稿集P-12-B、P129  (1998)
  • 金子 悦久、河合 晃:AFM微細探針によるレジストパターンの直接倒壊(5)<L字パターンの剥離強度>、秋季第59回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集15a-K-1、P584 (1998)
  • 金子 悦久、河合 晃:AFM微細探針によるレジストパターンの直接倒壊(6)<KrFレジストパターンのヤング率測定>、春季第46回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集29p-YB-1、P747 (1999)
  • 河合 晃、金子 悦久、森池 教夫:原子力間顕微鏡(AFM)の微細探針を用いた微細レジストマイクロパターンの直接剥離(3)、創立35周年記念、日本接着学会第37回年次大会、予稿集P-46-B、P169 (1999)
  • 金子 悦久、森池 教夫、河合 晃:AFM微細探針によるレジストパターンの破壊メカニズムの解析、電子情報通信学会技術研究報告、予稿集CPM99-98、P69 (1999)
  • 金子 悦久、阿部 貴人、河合 晃:原子力間顕微鏡(AFM)の微細探針を用いた微細パターンの破壊解析、第9回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集Ⅰ-10、P55 (1999)
  • 井上大輔、金子悦久、河合 晃:原子間力顕微鏡(AFM)を用いた170nmのレジストパターン破壊におけるクラックモデル解析、日本接着学会第39回年次大会、P40B, 講演要旨集, p79-80, (2001).
  • 河合 晃、金子悦久、山中雅貴:光学シミュレーションに基づく高アスペクト比のパターン形成、第13回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、Ⅳ-19、予稿集、P80、(2003)
川神 淳子 Junko Kawakami

1999年 修士課程修了

修士論文

原子力間顕微鏡(AFM)探針とシランカップリング処理した固体基板間のVan der Waals 力解析

原著論文
  • Akira Kawai, Junko Kawakami, "Characterization of SiO2 surface treated by HMDS vapor and O2 plasmawith AFM tip", J. Photopolymer Sci. Technol, 16, 665-668 (2003).
  • Akira Kawai, junko Kawakami, "Wetting analysis of hydrophobic substrate treated by HMDS primer", J. Photopolymer Science and Technology, 20, 815-816 (2007)
  • Akira Kawai, Junko Kawakami, Hiroki Sasazaki, "Surface Energy change of Si(100) Wafer by Exposing to Air", J. Photopolymer Sci. Technol, 21, 739-740 (2008).
国際学会
  • Akira Kawai, Junko Kawakami, "Interaction Analysis of Silicon Surfaces Treated with Oxygen Plasma and Silane-coupling Agent", Frontiers of surface engineering 2001 (FSE2001), Nagoya, Japan, Abstracts, D4-19, p355 (2001).
国内学会
  • 川神 淳子、河合 晃:AFMによるHMDS処理した基板表面のvan der Waals力解析、秋季第59回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集15a-K-2、P585 (1998)
  • 河合 晃、川神 淳子:原子間力顕微鏡(AFM)を用いた疎水及び親水処理後の固体表面のvan der Waals相互作用解析、創立35周年記念、日本接着学会第37回年次大会、予稿集P-10-B、P97 (1999)
西崎 芙美 Fumi Nishizaki

1999年 修士課程修了

修士論文

メニスカスコントロール法による数10nmクラスの局所陽極酸化技術の研究

国際学会
  • Akira Kawai, Fumi Fujita, Akihiro Takano, Nanoscale lithograph of Si surface with micro tip depending on surface adsorption water, ACA2009 (The third Asian Conference on Adhesion) Hamamatsu, PB28, p182-185.
国内学会
  • 西崎 芙美、河合 晃:AFM探針と基板間のメニスカス形状解析:AFM陽極酸化法によるアプローチ、秋季第59回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集18a-W-3、P531 (1998)
金川 栄三 Eizo Kanagawa

1999年 学部卒業

卒業論文

カンチレバー方式による湿度センサーの開発

国内学会
  • 河合 晃、岩田敏幸、金川栄三:カンチレバー方式による高感度センサーの開発、日本接着学会第39回年次大会、P51A, 講演要旨集, p101-102, (2001).
酒井 鉄平 Teppei Sakai

1999年 学部卒業

卒業論文

表面エネルギー制御による微小気泡の生成機構

武田 亘史 Koji Takeda

1999年 学部卒業

卒業論文

フリンジ観測による固体表面及び薄膜上の汚染分布解析

川上 喜章 Yoshiaki Kawakami

1998年 修士課程修了

修士論文

AFM微細探針による直接剥離法と溶液浸透モデルによるレジストパターンの接着挙動解析

受賞
  • 論文賞 (日本接着学会)(平成14年)「原子間力顕微鏡(AFM)を用いた微細探針走査法によるフォトレジスト微細パターンの接着性解析」
原著論文
  • 河合 晃、川上喜章、原子間力顕微鏡(AFM)を用いた微細探針走査法によるフォトレジスト微細パターンの接着性解析、日本接着学会誌、36, 2-9 (2000).
  • Akira Kawai and Yoshiaki Kawakami ,DUV Hardened Layer of Resist Dot Pattern Detected by Tip Indentation Method, J. Photopolymer Science and Technology,14, 749-750 (2001).
  • Hideaki Yoshida, Tadashi Nakamura, Yoshiaki Kawakami, Akira Kawai,“Establishment of Eaves Forming Model by Analysis of the Interface Energies at the Threefold of Cu/DFR/Ni Plating Solution”,J. Adhesion Soc. Japan, 38, 413-419 (2002).
  • 河合 晃、川上喜章、原子間力顕微鏡(AFM)による微細レジストパターンの屈折率分布の解析、 日本接着学会誌、vol.43, No.4, 140-143 (2007).
国際学会
  • Akira Kawai and Yoshiaki Kawakami, "Adhesion property of sub-micron resist pattern analyzed by direct peeling method with AFM tip", The 5th International Colloquim on Scanning Tunneling Microscopy, Kanazawa, Abstract p43 (1997).
  • Hideaki Yoshida, Tadashi Nakamura, Yoshiaki Kawakami and Akira Kawai, "Formation of micro eaves analyzed by energy balance model at threehold of Cu film/DFR/Ni plating solution", Microprocesses and Nanotechnology '00, 2000 International Microprocesses and Nanotechnology conference (MNC 2000), Tokyo, Japan (2000). Digest of papers, 11C-2-25, p88-89 (2000).
国内学会
  • 河合 晃、川上 喜章:AFM微細探針によるレジストパターンの直接剥離、春季第43回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集29p-V-13、P576 (1997)
  • 河合 晃、川上 喜章:AFM微細探針によるレジストパターンの直接倒壊(3)<溶液浸漬中での剥離>、秋季第58回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集3a-SC-19、P648  (1997)
  • 川上 喜章、河合 晃:AFM微細探針によるマイクロレジストパターンの直接剥離及び接着挙動解析、日本表面科学会、第17回表面科学講演大会、予稿集2B03(S)、P92 (1997)
  • 川上 喜章、河合 晃:微細カンチレバーを用いた微細レジストパターンの接着力解析、第7回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集Ⅳ-13、P109 (1997)
  • 河合 晃、川上 喜章:原子力間顕微鏡(AFM)の微細探針を用いたレジストマイクロパターンの直接剥離、第35回日本接着学会年次大会、予稿集P-14-A、P89 (1997)
  • 川上 喜章、河合 晃:AFM微細探針によるレジストパターンの直接倒壊(4)<微細パターンのヤング率測定>、春季第45回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集29p-YL-1、P715 (1998)
  • 河合 晃、金子 悦久、川上 喜章:原子力間顕微鏡(AFM)微細探針を用いたレジストマイクロパターンの直接剥離(2)、第36回日本接着学会年次大会、予稿集P-12-B、P129  (1998)
  • 吉田 秀昭、中村 忠司、川上 喜章、河合 晃:Cu基板/DFR/Niめっき液の3重点における界面エネルギーの平衡状態によるEaves形成モデルの確立、第38回日本接着学会年次大会、予稿集P-44-B、P87 (2000)
特許
  • 河合、川上、屈折率分布の解析方法、特願2007-38310号 (2007)
関 明寛 Akihiko Seki

1998年 修士課程修了

修士論文

ギャップ内の高分子膜に生じるViscous Fingering変形と接着性

原著論文
  • Akira Kawai, Akihiko Seki and Hotaka Endo,“Viscous finger pattern formed in photoresist film during heat treatment”,J. Photopolymer Sci. Technol, 17, 103-104 (2004).
国際学会
  • Akira Kawai, Hotaka Endo, Akihiro Seki, "Adhesion analysis of adhesive layer to viscous fingering deformation", Proceedings of 2004 Beijing International Bonding Technology Symposium (CSB2004), P07-1~6.
国内学会
  • 河合 晃、関 明寛、小泉 延恵:インピーダンス法によるフォトレジスト膜内の樹脂状空隙パターンの成長挙動解析、第35回日本接着学会年次大会、予稿集P-15-A、P91 (1997)
  • 関 明寛、河合 晃:インピーダンス法により解析した接着層の粘性指状変形、第7回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集Ⅳ-12、P107 (1997)
  • 関 明寛、河合 晃:基板間の高分子膜に生じる粘性指状変形と接着性、春季第45回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集29p-YM-9、P904 (1998)
  • 河合 晃、小井土順一、関 明寛:2枚の基板で挟まれた高分子膜に生じるViscous Finger変形と接着性の解析、日本接着学会第39回年次大会、P39A, 講演要旨集, p77-78, (2001).
堀口 博司 Hiroshi Horiguchi

1998年 修士課程修了

修士論文

原子力間顕微鏡(AFM)探針と微粒子間のVan der Waals力の解

受賞
  • 優秀発表賞 (電気学会東京支部新潟支所)(平成9年) 「原子間力顕微鏡(AFM)探針と有機微粒子間のvan der Waals(双極子間相互作用)力の解析」
原著論文
  • 堀口博司、河合 晃、AFM探針とポリスチレンラテックス(直径42nm~1μm)凝集粒子間の付着力解析 -DMT理論に基づく微粒子系の相互作用力の補正式-、日本表面科学会誌, 19, 491-497 (1998).
  • 河合 晃、堀口博司、原子間力顕微鏡を用いた微細探針と無機固体表面間のHamaker定数解析、日本接着学会誌、37, 146-149 (2001).
  • Akira Kawai, Takashi Yamaji, Hiroshi Horiguchi, "Adsouption of micro tip on various surface energy substrates", J. Photopolymer and Science and Technology, 21, 85-88 (2008).
国際学会
  • Akira Kawai, Hiroshi Horiguchi, Yoshihito Tatehaba, Kiyoshi Shimada, Eiichi Andoh, "Analysis for Adsorption Behavior of PSL Particle by using Atomic Force Microscopy"; Abstract No. 1924, p2222 (1997). Proc. 5th Inter. Symp. Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing, 97-35 Paris, 536-543 (1997).
国内学会
  • 鈴木 清修、後藤 浩志、小向 卓、堀口 博司、河合 晃、濱崎 勝義:Nb陽極酸化プロセスによるS-c-Sデバイスの作製と特性評価、春季第43回応用物理学関係連合講演会No.1、予稿集28a-SL-21、P107 (1997)
  • 河合晃、堀口博司、立幅 義人、嶋田 清、安藤 英一:原子間力顕微鏡を用いた微粒子の付着挙動解析(フォースカーブによる局所解析)、第35回日本接着学会年次大会、予稿集P-12-B、P85 (1997)
  • 堀口博司、立幅 義人、嶋田 清、安藤 英一、河合 晃:AFMによるPSL粒子とTip間の摩擦挙動解析、秋季第58回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集3p-ZT-4、P520 (1997)
  • 堀口博司、立幅 義人、嶋田 清、安藤 英一、河合 晃:AFM探針を用いたPSL粒子の凝集挙動の解析、秋季第58回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集4p-E-17、P843  (1997)
  • 堀口 博司、河合 晃:AFM探針とPSL(直径42nm~1μm)凝集体間の付着力に及ぼす粒子変形の影響、日本表面科学会、第17回表面科学講演大会、予稿集2B02(S)、P91 (1997)
  • 堀口 博司、河合 晃:原子力間顕微鏡(AFM)探針と有機微粒子間のvan der Waals(双極子間相互作用)力の解析、第7回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集Ⅱ-11、P53 (1997)
  • 河合 晃、堀口 博司、立幅 義人、嶋田 清、安藤 英一:有限要素法により解析した微粒子の剥離挙動、第18回計算電気・電子工学シンポジウム、予稿集1-Ⅱ-14、P119 (1997)
  • 堀口 博司、松下 剛、河合 晃、濱崎 勝義:AFMによる探針と固体表面間のHamaker定数の解析、春季第45回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集28a-YH-7、P528  (1998)
  • 堀口 博司、澤永 裕司、河合 晃:AFM微細探針によるポリスチレンテラックス(PSL)微粒子間の相互作用力解析、電子情報通信学会技術研究報告、予稿集CPM99-99、P75 (1999)
稲田 政勝 Masakatsu Inada

1998年 学部卒業

卒業論文

有機/無機固体界面の破壊メカニズムの解析と剥離プロセスの最適化

中田 健二 Kenji Nakata

1998年 学部卒業

卒業論文

微細レジストパターンの熱変形解析

芦田 安立 Yasuharu Ashida

1997年 修士課程修了

修士論文

原子力間顕微鏡(AFM)を用いた固体の表面自由エネルギー解析

原著論文
  • 河合 晃、芦田安立:AFM微細探針によるAu表面の弾性および吸着特性;日本接着学会誌、33, 395-397 (1997).
国内学会
  • 河合 晃、芦田 安立:AFM探針の付着力と表面エネルギー成分(極性、分散)との相関、春季第44回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集30a-PB-9、P517 (1997)
岡田 彰 Akira Okada

1997年 修士課程修了

修士論文

ミクロンサイズの幾何学的凹凸表面を用いた液滴の濡れ挙動解析

原著論文
  • 河合 晃、岡田 彰:異種材料で構成された格子状基板上での液滴の接触角;日本接着学会誌誌, 34, 22-25 (1998).
  • Masaki Yamanaka, Akira Okada and Akira Kawai,"Pinning effect of micro drops on geometrical complex substrates composed with different surface energy materials",J. Vac. Sci. & Technol, Nov/Dec (2004)
国際学会
  • Masaki Yamanaka, Akira Okada, Akira Kawai, "Pinning Effect of Micro Liquid Drop on Geometrical Complex Substrate Composed with Different Surface Energy", Abstract book, p218-219, SanDiego, EIPBN 2004.
国内学会
  • 河合 晃、岡田 彰:ミクロンサイズの幾何学的凹凸表面上での液滴の濡れ挙動、第34回日本接着学会年次大会、予稿集P-32-B、P151 (1996)
小泉 延恵 Nobue Koizumi

1997年 修士課程修了

修士論文

Cu薄膜のAl膜に対する接着挙動解析 ~レジストを接着剤として用いた引っ張り試験~

原著論文
  • 河合 晃、小泉延恵:溶剤蒸発に伴うレジスト膜の粘性指状変形と接着性;日本接着学会誌, 33, 434-437 (1997).
  • 原 朋敬、小泉延恵、河合 晃、Glass/レジスト/Cu/Al/Glass多層構造の破壊特性解析、日本接着学会誌、37, 303-308 (2001).
国内学会
  • 河合 晃、小泉 延恵:Cu/WBL/Al多層膜構造の破断面解析、春季第43回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集29a-ZM-6、P459 (1997)
  • 河合 晃、関 明寛、小泉 延恵:インピーダンス法によるフォトレジスト膜内の樹脂状空隙パターンの成長挙動解析、第35回日本接着学会年次大会、予稿集P-15-A、P91 (1997)
  • 河合 晃、小泉延恵、根本忠哉:Cu/Al多層膜構造の破壊強度に及ぼすAl自然酸化膜の影響、第12回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、P-15、予稿集、p98(2002).
西村 知巳 Tomomi Nishimura

1997年 修士課程修了

修士論文

固体表面での微小液滴群の付着挙動及び工学的干渉縞による汚染解析

国際学会
  • Akira Kawai, Tomomi Nishimura, Hiroki Sasazaki, Optical fringe pattern observed on condensed micro water droplets, ACA2009 (The third Asian Conference on Adhesion) Hamamatsu, PB29, p188-191.
国内学会
  • 河合 晃、西村 知巳、内海 誠:固体表面での微小液滴群の成長・消滅過程、第34回日本接着学会年次大会、予稿集P-40-B、P167 (1996)
関屋 さとみ Satomi Sekiya

1996年 学部卒業

卒業論文

原子力間顕微鏡(AFM)によるフォトレジスト膜表面の摩擦挙動解析 ~周期パターンの歪検出~

国内学会
  • 河合 晃、関屋 さとみ:AFM測定時の像シフトによるフォトレジスト表面の摩擦特性解析、春季第43回応用物理学関係連合講演会No.2、予稿集29a-Q-11、P516 (1996)