研究室メンバーと業績

河合 晃 (かわい あきら)

河合晃教授

学位

博士(工学) 長岡技術科学大学

職名

国立大学法人 長岡技術科学大学 大学院 教授
電気電子情報工学専攻 電子デバイス・フォトニクス工学講座

略歴

長岡技術科学大学工学部電子機器工学課程卒業
長岡技術科学大学工学研究科修士課程修了
三菱電機株式会社入社 LSI研究所勤務
高集積半導体集積回路(LSI)の基礎研究・試作・量産移管業務
ナノリソグラフィー・ナノ計測技術・表面界面制御の要素技術開発業務を担当
三菱電機株式会社 1級主員
長岡技術科学大学大学院博士後期課程入学(社会人博士コース)
三菱電機株式会社 主事
同大学 同大学院 修了。博士(工学)
三菱電機株式会社退職
長岡技術科学大学 工学部電気系勤務 助教授
文部省在外研究員(短期) Sussex大学(英国)
博士後期課程主指導教官資格認定
長岡技術科学大学 工学部電気系勤務 准教授
長岡技術科学大学 テクノインキュベーションセンター(NTIC) 副センター長兼務
長岡技術科学大学 代議員(准教授・講師)
長岡技術科学大学 大学院 教授
研究成果活用企業(大学ベンチャー企業)のアドヒージョン株式会社を設立。代表取締役(兼務)
現在に至る。

兼業

アドヒージョン株式会社(研究成果活用企業・大学ベンチャー企業)2016年6月 設立

外部委員
  • 独立行政法人日本学術振興会, 科学研究費委員会専門委員(2007~09年基盤研究等第1段審査委員),電子デバイス・電子機器
  • 科学技術振興機構(JST),シーズ発掘試験査読評価委員会(2007~09年)
  • 独立行政法人新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO),「次世代半導体材料・プロセス基盤(MIRAI)プロジェクト」NEDO研究評価委員会分科会委員(2008~09年)
  • JABEE評価審査員(2009~10年)
  • 独立行政法人日本学術振興会, 科学研究費委員会専門委員(2014~15年基盤研究等第1段審査委員),電子デバイス・電子機器
  • 国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO),超先端材料超高速開発基盤技術プロジェクト採択審査員(2016年)
  • 国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO),「次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発」研究評価委員(2016年)
  • 日本接着学会評議員(1998年~現在)

論文査読委員
Polymer (IF 3.379)
Physical Chemistry Chemical Physics (PCCP) (IF 3.829)
Micro Electronic Engineering (ME) (IF 1.398)
Japanese Jouoranal of Applied Physics (JJAP) (IF 1.024)
日本接着学会誌

主な学内委員

テクノインキュベーションセンター(NTIC) 副センター長
スーパー連携大学院構想準備委員
代議員(准教授・講師)
テクノミュージアム運営委員
三機関連携 技学イノベーションセンター 副部門長 レジリエントインフラGrリーダー
電気電子情報工学課程 課程主任、材料工学専攻 博士副専攻主任
課程主任、博士専攻主任(材料工学専攻)

免許等

・危険物乙第4類取扱者
・特定化学物質等作業主任者
・有機溶剤作業主任者
・高等学校教諭一級免許状「工業」

博士論文

「フォトレジストと無機基板との接着機構に関する研究」(1992年 長岡技術科学大学)

専門分野・研究歴
・ナノ・マイクロシステム
微小液滴制御用マイクロチャネル素子、カンチレバーセンサー、ナノメニスカス陽極酸化デバイス、電荷ストレージデバイスナノ・マイクロ計測制御技術、マイクロ発電デバイス、マイクロ燃料電池デバイス、うなり振動法による低周波振動検出システム、マイクロバブルメモリ
・プローブ顕微鏡技術
微細パターンの直接剥離試験(Direct Peeling by AFM Tip)技術、ポリマー中への溶液浸透解析技術、カンチレバーセンサ、微粒子凝集性解析、吸着水解析、周期パターン摩擦検出法、表面自由エネルギー成分解析、液中ナノバブル・ナノ液滴解析法、SNOM法表面解析装置
・微細加工技術
サイドウォール型パターン形成法、高分子集合体マニピュレーション、ナノメニスカス陽極酸化法、多段階異方性エッチング法、局所帯電、超解像技術、位相シフト露光技術、薄膜コーティング技術、薄膜乾燥技術、高機能メッキ技術、マイクロ陽極酸化技術
・ナノスケール計測・制御
表面オゾンUVクリーンシステム、多角形プリズムFT-IR装置、ATR-Auプラズモン解析装置、液体メニスカス解析装置、エキソ電子検出
・表面界面制御技術
表面エネルギーバランスモデル、微小液滴ダイナミクス、表面帯電制御、インピーダンス法による接着層解析、エキソ電子法、薄膜コート法による応力分布解析法、VFパターン解析、多角形プリズム式FT-IR法、QCM法による単分子膜解析、液滴形状制御、粘着テープ剥離
・電子材料・フォトポリマー材料技術
Ta2O5膜,ITO膜,TiO2膜などの機能性無機材料、SiCなどの半導体材料、高分子集合体の凝集制御、レジストパターン内のナノ空間制御、高コントラスト型レジスト材料開発、高分子膜の乾燥メカニズム、アルカリ水溶液の浸透膨潤メカニズム解析、レジストパターンの表面硬化層形成、高分子表面の相互作用引力解析、レジストパターンのヤング率解析法、プラズマ重合法によるHMDSO膜の形成、ラインエッジラフネス(LER)低減技術
受賞

Photopolymer Science and Technology Award (CPST Comittee 2005)
進歩賞 (平成11年度・日本接着学会)
論文賞 (平成14年度・日本接着学会
ベストポスター賞(平成14年度・日本接着学会)
ベストポスター賞(平成17年度・日本接着学会)

所長表彰(三菱電機株式会社、在職時)
優秀特許表彰(三菱電機株式会社、在職時)

研究発表

著書     37件
原著論文   166報
総説     71報
国際学会   122件
招待講演   12件
特許  (登録13件、公開特許98件、国際特許11件)
国内学会   212件

学生指導

学位指導実績: 博士学生 5名、修士学生 59名、学部学生 35名

社会活動

信濃川テクノポリス開発機構 指導会員(平成10~12年度)
にいがたナノテク研究会(新潟産業創造機構NICO)MEMS分科会 幹事、副会長(平成17~21年度)

所属学会

電気学会、応用物理学会、日本接着学会、日本物理学会、日本表面科学会、精密工学会、フォトポリマー懇話会

専門分野

ナノ・マイクロシステム、電子材料、マイクロマシン、集積回路、リソグラフィー(微細加工)、光有機反応、センサーデバイス、デバイスプロセス、プローブ顕微鏡、表面・界面・付着、クリーン化技術、ナノ・マイクロ計測・制御システム、機能性高分子材料

担当講義

学部:
電子デバイス・フォトニクス工学(必修)、電子回路、応用電子工学、デバイス工学Ⅲ、電気技術英語(必修・選択)、電気電子計測工学、集積デバイス工学演習、電気電子情報工学実践演習(必修)、電気電子情報工学特別考究及びプレゼンテーション(必修)、実務訓練(必修)、課題研究(必修)

学生実験指導:
学部3年生 物性Ⅲ(誘電体)

大学院博士前期(修士):
機能性デバイス工学特論、デバイスプロセス工学特論、電磁変換素子工学、電気電子情報工学セミナーⅠ~Ⅳ、電気電子情報工学特別実験

大学院博士後期:
機能性材料工学特論、材料工学輪講Ⅰ、Ⅱ

国際連携

・国際学会(SMTV11),Sanjo,Niigataの大会準備運営委員(1993)
・英国SUSSEX大学 在外研究員(海外インターンシップの導入準備)
・ダルムシュタット工科大学(ドイツ)の交換留学生受け入れ(1995)
・スーパー連携大学院構想 中国深浅および北欧での研究教育状況視察
・ニューヨーク州立大学アルバニー校との連携準備

海外訪問国、都市

アメリカ合衆国(サンフランシスコ、L.A.、サンノゼ、サンディエゴ、アトランタ、ニューヨーク、アルバニー、ボストン、ハワイ)、イギリス(ロンドン、ブライトン、ケンブリッジ、グリニッジ、ポーツマス、ハースティング)、フランス(パリ)、イタリア(ローマ)、スイス(チューリッヒ、ベルン、ジュネーブ、ローザンヌ、ツェルマット)、ドイツ(イエナ、フランクフルト、ケルン、ボン、ワイマール、ライプツイヒ)、ベルギー(オーステン、ブリュッセル)、オーストリア(ウィーン)、デンマーク(コペンハーゲン)、フィンランド(ヘルシンキ、アールト)、スウェーデン(ルンド)、オーストラリア(シドニー)、中国(北京、香港、深セン、大連)、台湾(台北)、韓国(ソウル、水原)

趣味・特技

卓球、ゴルフ、史跡巡り、芝刈り

座右の銘

言行一致